氧化特點：

1、 降低孔隙率，晶核的形成速度大于成長速度，促使晶核細化。
2、 改善結合力，使鈍化膜擊穿，有利于基體與鍍層之間牢固的結合。
3、 改善覆蓋能力和分散能力，高的陰極負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積，減緩形態(tài)復雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷 ，降低鍍層的內應力，改善晶格缺陷、雜質、空洞、瘤子等，容易得到無裂紋的鍍層。
4．有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。提高產(chǎn)品質量
5、 改善陽極的溶解。增強鍍液的分布力 
7、 改進鍍層的機械物理性能，如提高密度降低表面電阻和體電阻，提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。
8. 提高復雜工件電流分布
技術指標比如（1000A50V）： 
1、輸入電壓： AC380V±15%  頻率50HZ
2、輸出電壓： 0-50V 可選
3、輸出電流： 0-1000A 可選 
 4、輸出脈沖頻率： 20KHZ
5、脈沖方波輸出，氧化膜層硬度高。
6、效率達到90%以上,省電。相對于可控硅電源而言，可省電 15-20%
7、體積小，重量輕。安裝和維修十分方便
8、穩(wěn)壓、穩(wěn)流轉換功能，穩(wěn)壓、穩(wěn)流可自行選擇
9、有近控與遠控可供選擇。操作簡便
10、工作時間控制功能，遠程控制可配0~4段時間設計輸出。（由客戶選訂）
11、具過載、過流、過熱、缺相、欠壓、超壓、輸出短路等多重快速保護功能，自動停機功能安全可靠。
12、電流、電壓及工作時間數(shù)字顯示，直觀明了
13、噴塑外殼，封閉的具防腐防潮功能的控制電路，在惡劣環(huán)境下安全可靠。
14、輸出為高穩(wěn)定的20KHZ高頻方波，亦可經(jīng)容抗濾波使之輸出為低紋波直流型。（由客戶選訂）
15、所有設備出廠前已經(jīng)過嚴格檢測和長時間的老化試驗，可晝夜?jié)M負荷，大電流連續(xù)不間斷運行，真正的耐用、可靠!　
16、本機采用風冷或水冷式，客戶自選。