間歇式鋰離子石墨烯導(dǎo)電添加劑高速濕磨機(jī)，復(fù)合導(dǎo)電添加劑高速濕磨機(jī)，石墨烯導(dǎo)電添加劑研磨機(jī)，NMP石墨烯導(dǎo)電添加劑研磨分散機(jī)，碳納米管石墨烯復(fù)合導(dǎo)電漿料研磨機(jī)，灰黑色粘稠狀漿料均質(zhì)研磨機(jī)，you異石墨材料濕法研磨機(jī)

 鋰離子電池石墨烯復(fù)合導(dǎo)電添加劑外觀為灰黑色黏稠狀漿料，是以石墨烯為核心、NMP 為溶劑，添加一定量碳納米管的石墨烯復(fù)合導(dǎo)電漿料。利用石墨烯優(yōu)異的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和柔性薄片結(jié)構(gòu)，可在整個(gè)材料體系上形成高效的三維立體導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)，能夠降低電池內(nèi)阻，提高其充放電倍率和循環(huán)性能。

石墨烯在NMP溶劑先混合攪拌，后經(jīng)過上海依肯高速剪切研磨分散設(shè)備進(jìn)行高速剪切、離心、分散、均化，同時(shí)由于NMP溶劑有毒、易揮發(fā)，因此需要采用真空形式制備。

由于石墨烯的特殊結(jié)構(gòu)，采用砂磨機(jī)容易破壞片層結(jié)構(gòu)，超聲剝離效率慢。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行石墨烯漿料的處理，研磨分散機(jī)是將膠體磨（研磨機(jī)）和分散機(jī)合二為一的設(shè)備。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的剪切力、離心力，對(duì)物料進(jìn)行剪切、剝離、分散、細(xì)化。所以特別適合石墨烯漿料的生產(chǎn)，并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)。詳詢上海依肯 工程師 林萬翠

 ikn石墨烯導(dǎo)電添加劑濕磨機(jī)三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散機(jī)比普通的研磨分散機(jī)的速度達(dá)到3倍以上,的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

分散頭：用于研磨后再次細(xì)化和團(tuán)聚打開

上海依肯專業(yè)從事于石墨烯設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā)，有著豐富的經(jīng)驗(yàn)積累，跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。以及石墨烯衍生產(chǎn)品，石墨烯涂料、石墨烯潤滑油、石墨烯復(fù)合材料等都有著足夠的經(jīng)驗(yàn)。鋰電行業(yè)中深圳、湖南、上海、四川、江蘇等大型知名鋰電企業(yè)使用我司研磨分散機(jī)進(jìn)行新型石墨復(fù)合材料制備及多樣鋰電漿料的研發(fā)、生產(chǎn)     石墨烯研究中包括成都研究所，北京航天，常州、寧波、安徽、上海、中科院等   高校中上海大學(xué)、南京工業(yè)大學(xué)、清華大學(xué)、北京化工大學(xué)、華理等多所知名高校研發(fā)   還有其他很多的企業(yè)、研究院及高校    詳詢上海依肯 工程師  林萬翠

上海依肯研磨分散機(jī)較普通分散機(jī)（zui高轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn)）高出4-5倍轉(zhuǎn)速（14000轉(zhuǎn)），作用力更強(qiáng)，剪切分散效果更好；設(shè)備整機(jī)夾套，可根據(jù)需求加熱貨冷卻；工作腔體及罐體夾套中的介質(zhì)可根據(jù)需求通水/冷卻液/漿料中的液體介質(zhì)/導(dǎo)熱油等均可；定轉(zhuǎn)子間間隙僅為0.2-0.4mm（間隙可調(diào)，研磨細(xì)度可控），而普通分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子間隙為1mm以上。詳詢上海依肯 工程師 林萬翠

設(shè)備的選型要點(diǎn)：

1、明確使用設(shè)備所需達(dá)到的效果和目的

2、詳細(xì)了解并掌握研究物料的性質(zhì)（包括物理、化學(xué)性質(zhì)）

3、根據(jù)物料對(duì)設(shè)備的攪拌機(jī)進(jìn)行選型

4、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

5、綜合考慮設(shè)備的成本

CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

上海IKN技術(shù)，*創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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