光化學惡臭氣體處理設備采用現代國際上二十世紀九十年代末*的光/氧協同除臭技術，以特殊的設計、工藝和材料制造的高效率、高強度、長壽命的光化學裝置為基礎，這種技術綜合利用了高強輻照場對惡臭物質的破壞作用和氧對惡臭物質的氧化去除作用來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇等VOC(揮發(fā)性有機物)，并利用了氧在強輻照下分解所產生的活潑的次生氧化劑來氧化有害物質。輻照場和氧一道，存在著一個協同作用，這種協同作用使該技術對惡臭去除的速率得到7至9個數量級的增加，即反應速度增加千萬甚至上億倍。

威特斯光化學惡臭氣體處理設備運用了光化學氧化的作用，該設備很多用于一般方法難以處理的惡臭污染物，它可以在較短的時間內得以*降解。裂解惡臭氣體如：氨、三甲an、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯， VOC類，苯、甲苯、二甲苯等。

硫化氫等惡臭氣體在光化學處理設備中迅速發(fā)生光化學反應，轉化為無臭無害的物質，從而使臭味得到很好的去除。
1．硫化氫（H2S）的光化學反應過程如下：
O3 + hν ---→ O2 + ·O
·O + H2O ---→ 2·OH
·O + O2 ---→ O3
H2S + O3 + hν ---→ S2-+H2O+O2
硫化氫分子吸收來自輻照光量子的輻射能時，如果所吸收的能量大于或等于匹配鍵的離解能時則發(fā)生鍵斷裂，產生原子或自由基。硫化氫反應產生硫離子，從而使惡臭味消失。硫離子還可以在環(huán)境中繼續(xù)進行反應，生成SO2-4。
2、 氨氣(NH3)的光化學降解涉及以下光化學反應：
氨發(fā)生初級光化學反應后的分子或者自由基吸收輻射后繼續(xù)發(fā)生化學變化，
產生的產物能夠進一步參與次級化學過程。
①觸發(fā)反應
O3+hν ---→ O2+·O
O2+hν ---→ ·O +·O
NH3+hν ---→ ·NH+2·H
O3+OH- ---→ ·HO2+·O2-
·HO2 ---→ ·O2-+H+
②傳遞過程
·O+H2O ---→ 2·OH
·O+ O2 ---→ O3
·O2-+ O3 ---→ ·O3- +O2
·O3- + H+ ---→ ·HO3
2·NH ---→ N2+2·H
③終止反應
2·NH+·O ---→ N2+H2O
3  甲硫醇（CH3SH）
甲硫醇的光化學反應和硫化氫的類似，同樣是因為HS-結構型式的破壞而失
去臭味。
O3+hν ---→ O2+·O
·O+H2O ---→ 2·OH

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