冷坩堝非自耗真空電弧爐英文配置說明

一·具體參數(shù)電弧熔煉室：立式圓筒型真空室，尺寸φ400X400mm

真空系統(tǒng)配置：機械泵、擴散泵（分子泵）、擋板閥

極限壓力：≤6.67x10E-3Pa ≤6.67x10E-4Pa （分子泵）

熔煉電流：長期工作電流700-1200A

熔煉坩堝：有五個工位 (半球窩SR25)三個熔煉合金工位 (帶磁攪拌)一個吸鑄工位一個熔煉除氣工位

熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50~80克

真空吸鑄裝置:提供標準噴鑄模具1套

電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧

設(shè)備占地面積:1200*800*1600

二·冷坩堝非自耗真空電弧爐英文配置說明產(chǎn)品用途

非自耗真空電弧爐主要供大專院校或科研機構(gòu)在真空或保護氣氛下對少量（數(shù)十克至上百克）貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金。

三·結(jié)構(gòu)說明

本產(chǎn)品由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構(gòu)、上電極旋轉(zhuǎn)升降機構(gòu)，吸鑄模具升降機構(gòu)，真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理。結(jié)構(gòu)新穎外形美觀大方。控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設(shè)計，并安裝有金屬模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識別度高，方便操作！下電極可裝有五個坩堝工位，一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。上電極可上下移動，方便熔化操作。爐側(cè)有一至二個觀察窗用來操作引弧，觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。

真空系統(tǒng)采用二級泵，即K-200油擴散泵（或者分子泵）和TRP-24直聯(lián)泵，操作無聲，無雜音。真空機組上設(shè)有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。

一、設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設(shè)備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機臺等各部分組成。

三、主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號： KDH-600

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、具有熔煉與吸鑄功能，吸鑄模具與水冷模具套滑配，保證冷卻效果的同時，拆卸方便

4、真空系統(tǒng)配置：飛越直聯(lián)泵、TK-150擴散泵、三臺氣動擋板閥和各種管路

5、冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10E-3Pa

6、熔煉電流：額定電流≤600A

7、電弧熔煉水冷坩堝：五個工位；其中有一工位用于吸鑄，容重（樣品重量）5-70(克）/熔煉池，一個長條工位容重（樣品重量）20~120(克；1~2個磁攪拌工位，攪拌可切換

8、攪拌方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉(zhuǎn)組件；

9、電極桿和機械手均采用球密封機構(gòu)，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜。

10·爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

11，真空系統(tǒng)獨立安裝，方便拆卸并便于和其他真空設(shè)備對接，一套多用。

12、工作氣體：Ar氣；

13、冷卻方式：水冷，水壓保護，含自動報警；

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