| 產(chǎn)地類別 |
進口 |
價格區(qū)間 |
80萬-100萬 |
| 應用領域 |
電子/電池,電氣 |
美國ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺式 ALD系統(tǒng)，在小巧的機身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可多容納9片8英寸基片同時沉積。GEMStar XT全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設計，使溫度均勻性高達99.9%，氣流對溫度影響減少到0.03% 以下。高溫度穩(wěn)定度的設計不僅實現(xiàn)在8英寸基體上實現(xiàn)膜厚的不均勻性優(yōu)于99%，而且更適合對超高長徑比的孔徑結(jié)構等3D結(jié)構實現(xiàn)均勻薄膜覆蓋，可實現(xiàn)對高達1500: 1長徑比微納深孔內(nèi)部的均勻沉積。
GEMStar XT 產(chǎn)品特點： * 300℃ 鋁合金熱壁，對流式溫度控制 * 175℃溫控150ml前驅(qū)體瓶，200℃溫控輸運支管 * 可容納多片4，6，8英寸樣品同時沉積 * 可容納1.25英寸/32mm厚度的基體 * 標準CF-40接口 * 可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件 * 等離子體輔助ALD插件 * 多種配件可供選擇 | GEMStar XT 產(chǎn)品型號： GEMStar XT： * 大8英寸/200 mm基片沉積（4'和6' 可選） * 單/雙路前驅(qū)體輸運支管， 4/8路前驅(qū)體瓶接口 * 不可升級為等離子體增強ALD GEMStar XT-R： * 大8英寸(200mm)基片沉積（4'和6' 可選） * 單/雙路前驅(qū)體輸運支管， 4/8路前驅(qū)體瓶和CF-40接口 * 可升級為等離子體增強ALD |
 | GEMStar XT-P： * 大8英寸/200mm基片沉積（4'和6 '可選） * 單/雙路前驅(qū)體輸運支管， 4/8路前驅(qū)體瓶和CF-40接口 * 裝備高性能ICP等離子發(fā)生器 13.56 MHz 的等離子源非常緊湊，只需風冷， 高運行功率達300W。 * 標配3組氣流質(zhì)量控制計（MFC）控制的等離子氣源線，和一條MFC控制的運載氣體線，使難以沉積的氧化物、氮化物、金屬也可以實現(xiàn)均勻沉積。 |
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新產(chǎn)品發(fā)布：  | GEMStar NanoCUBE： * 大100 mm 立方體樣品 沉積 * 單路前驅(qū)體輸運支管， 2路前驅(qū)體瓶接口 * 主要用于3D多孔材料，以及厚樣品的沉積 |
豐富配件： |
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多樣品托盤： * 多樣品夾具，樣品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。 * 多基片夾具，多同時容納9片基片。 
| 溫控熱托盤： * 可加熱樣品托盤， 高溫度500℃，可實現(xiàn)熱盤-熱壁復合加熱方式。
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粉末沉積盤：
| 臭氧發(fā)生器：
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真空進樣器（Load Lock）  | 晶振測厚儀 |
前驅(qū)體瓶： | 前驅(qū)體加熱套 |
粉末旋轉(zhuǎn)沉積罐模塊： 配合熱壁加熱方式，進一步實現(xiàn)對微納粉末樣品全保型薄膜均勻沉積包覆。  
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手套箱接口： 可從側(cè)面或背面wan美接入手套箱，與從底部接入手套箱不同，不占用手套箱空間。由于主機在手套箱側(cè)面，反應過程中不對手套箱有加熱效應，不影響手套箱內(nèi)溫度。 |
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應用案例
應用領域
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