特點(diǎn)：

• 原子層量級的*靈敏度

  *的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級的極薄納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.01nm，折射率精度達(dá)到0.0001。

• 百毫秒量級的快速測量

  多入射角激光橢偏儀水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì)，在保證*精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量，可滿足單原子膜層生長的實(shí)時(shí)測量。

• 簡單方便的儀器操作

  多入射角激光橢偏儀用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進(jìn)行高級測量設(shè)置。

應(yīng)用：

• EMPro適合于高精度要求的科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
• EMPro可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時(shí)測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實(shí)時(shí)測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
• EMPro可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。