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in-line磁控濺射系統

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真空應用設備、真空獲得設備、太陽能光伏裝備、工業(yè)化產品

產地類別 國產

設備用途

in-line磁控濺射系統用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜（Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等），并能夠實現反應濺射，磁控濺射系統可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝，磁控濺射系統具備較大尺寸和多種尺寸規(guī)格的晶體硅光伏電池薄膜的連續(xù)制備能力。

設備組成

in-line磁控濺射系統主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統、氣路系統、電控系統、安裝機臺等部分組成。此外,該系統升級后，磁控濺射系統可達到5室結構(進樣室、三個獨立的濺射室、出樣室；增加射頻電源，提供制備介質膜的功能，并能實現連續(xù)鍍膜)。



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