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Iplas 沉積機 德國 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

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藍星宇科技專業(yè)研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機等儀器設(shè)備。引進日本,德國,韓國*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認可。

  同時我們專注進口科學儀器設(shè)備及材料,主要代理有國 Heidelberg 海德堡光刻機,美國 OAI 光刻機,德國 Raith 電子束光刻機,英國 Durtham 無掩膜光刻機,美國 Trion 刻蝕機.沉積機,德國 Sentech 刻蝕機.沉積機,德國 Optosol 吸收率發(fā)射率檢測儀,日本 SEN  UV清洗機.UV清洗燈,美國Jelight UV清洗機,美國 Nano-master 晶圓清洗機,美國 Arradiance 原子層沉積機,德國 WL 微波離子沉積機德國 Iplas 微波離子沉積機,美國量子科學 Quantum 綜合物性測量系統(tǒng),德國 Diener 等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品;并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。

光刻機,鍍膜沉積機,刻蝕機,UV清洗機,實驗檢測儀器,UV燈

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領(lǐng)域 電子/電池

德國 Iplas 微波等離子化學氣相沉積

 

德 Iplas 微波等離子化學氣相沉積
 

詳細介紹
德國 IPLAS 微波等離子化學氣相沉積技術(shù)(MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

MPCVD是*的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限,可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團,大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態(tài)的變化,從而確保單晶生長的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。

 

化學機理概要:

碳氫化合物:提供沉積材料

氫氣:生成sp3

氧:對石墨相/sp2鍵侵蝕

惰性氣體:緩沖氣體,或生成納米晶體。

適用合成材料:

大尺寸寶石級單晶鉆石

高取向度金剛石晶體

納米結(jié)晶金剛石

碳納米管/類金剛石碳(DLC)


金剛石薄膜

寶石級鉆石

vvs1,~1 carrat, E grade

 

多種等離子發(fā)生器選擇:

 

頻率:2.45GHz, 915MHz:

 

功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW

 

等離子團直徑:70mm, 145mm, 250mm, 400mm

 

工作其他范圍:0-1000mBar 

 

                    

其他應用:


MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領(lǐng)域的積累,可以為用戶提供高度定制的設(shè)備,滿足用戶不同的應用需要。

 

 

 



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