鍍膜設(shè)備,耐火保溫材料,智能化設(shè)備,真空設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,光學(xué)設(shè)備,機(jī)械設(shè)備,電氣設(shè)備,儀表儀器生產(chǎn)銷售。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
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一、非自耗真空電弧爐 紐扣爐設(shè)備用途 :
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空電弧爐,非自耗電弧爐紐扣爐設(shè)備特點(diǎn):
1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì),外形美觀大方
2·采用立式側(cè)部開門結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)新穎
3 .配置大口徑觀察窗,可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況
4·冶煉溫度高,純氯保護(hù)熔煉溫度高3500度以上滿足稀貴金屬及超高溫金屬材料的冶煉
5·采用電弧熔煉專用的熔煉電源。功耗小
6·采用桌面式設(shè)計(jì),易操作
7 配有操作模擬屏,控制數(shù)據(jù)直觀顯示,操作直觀簡(jiǎn)潔
8.高真空設(shè)計(jì),真空室小可快速抽真空真空度可達(dá)5×10E-4Pa及以上,氬氣消耗少
9.自帶冷水機(jī),到貨即可使用。
10.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛
11.水冷銅電極可360度移動(dòng),操作靈活,同時(shí)水冷坩堝小巧可更換,可定制。
12.帶翻料裝置,克服物料單面熔化不勻的局面
三、非自耗真空電弧爐 紐扣爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù):
1、型號(hào): KDH-1000
2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置:DVR-30直聯(lián)泵、JTFB-600分子泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-4Pa
5、熔煉電流:額定電流1000A
6、熔煉坩堝 :多工位組合銅模,可根據(jù)客戶要求定做,配有電磁攪拌,非晶吸鑄工位等
7、熔煉合金工位: (其中兩個(gè)工位帶磁攪拌)一個(gè)吸鑄工位一個(gè)熔煉除氣工位
8、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 200克,可選擇20g 30g 80g 200g不同容量的電弧爐
9、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
10、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧