一、設備用途和特點
1、用途：生物化工和半導體材料科研領域?qū)嶒炇业娜捉鉀Q方案，*解決材料的表面去膠、清洗、改性、活化、PDMS微流控芯片鍵合等工藝過程中的問題。

2、特點：
（1）外觀整潔、美觀，安全防護，節(jié)省空間的使用面積；
（2）材質(zhì)易于清洗和維護，設備結(jié)構(gòu)布局合理，用戶操作、使用、維修方便；
（3）采用成熟、可靠的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)方式，確保設備工作的可靠性；
（4）高性能、低故障率、長使用壽命、易操作維修、造型美觀、售后服務完備;
（5）7英寸觸摸屏控制界面，全自動操作；
（6）等離子強度探測器實時測量等離子源強度。

二、技術參數(shù)
1、操作控制系統(tǒng)
1.1 操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面，直觀易懂的用戶界面； 
1.2 程序控制：可編程，總共有20個配方；
1.3 配方里面可以控制射頻電源功率，射頻脈沖占空比，2路氣體的流量；
1.4 智能系統(tǒng)自檢功能實時監(jiān)測各個部件的狀態(tài)。監(jiān)測用戶的操作模式，并且根據(jù)用戶的操作模式或者碰到的問題實時提供建議。
1.5 可以通過外部電腦操作控制系統(tǒng)。可以要求廠家遠程登陸來提供在線診斷和服務。可以存儲系統(tǒng)操作和狀態(tài)日志文件。

2、樣品腔體
2.1 腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙；
2.2 前觀測窗：前方開口，石英玻璃可視窗口，可觀測內(nèi)腔等離子狀態(tài)，并帶有防真空泄漏和避免高壓的聯(lián)鎖裝置，有效保護操作的安全性；

3、射頻電源 
3.1 射頻頻率：13.56MHz；

4.等離子源設計
4.1 等離子強度探測器實時測量等離子源強度；
4.2 外置電極設計，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染；
4.3 雙等離子源：浸入式等離子源用于主動表面處理、光刻膠蝕刻；遠程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化（可選配）。
4.4 遠程模式：同時具有直接模式和遠程模式（可選配）。

5.等離子診斷功能
5.1*的定量等離子體強度傳感器引導用戶對不同樣品調(diào)整配方。
5.2根據(jù)等離子強度傳感器反饋而設計的智能等離子啟輝和調(diào)諧功能，大大提高工作的射頻功率范圍，腔體氣壓范圍。

6、氣體控制 
6.1 氣路控制：二路MFC。