CKF-411 型涂膠機(jī),顯影臺
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 鑫有研電子科技上海有限公司
- 品牌
- 型號 CKF-411
- 產(chǎn)地 中國
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2017/8/14 6:56:06
- 訪問次數(shù) 508
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顯影機(jī)
顯影機(jī)采用*的單片微型機(jī)程序自動控制,顯影質(zhì)量好工藝條件穩(wěn)定可靠適應(yīng)宜科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其它半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用。
本機(jī)顯影工藝采用了*的噴霧方式,可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù),程序時(shí)間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整,其程序?yàn)檠訒r(shí)吸片、顯影、漂洗、干燥、延時(shí)復(fù)位。
采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整,特別是對較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。
本設(shè)備除能實(shí)現(xiàn)顯影工藝外亦可進(jìn)行人工涂膠,工藝指標(biāo)與本系列產(chǎn)品CKF-411型涂膠機(jī)相同
主要技術(shù)指標(biāo)
本機(jī)顯影工藝采用了*的噴霧方式,可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù),程序時(shí)間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整,其程序?yàn)檠訒r(shí)吸片、顯影、漂洗、干燥、延時(shí)復(fù)位。
采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整,特別是對較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。
本設(shè)備除能實(shí)現(xiàn)顯影工藝外亦可進(jìn)行人工涂膠,工藝指標(biāo)與本系列產(chǎn)品CKF-411型涂膠機(jī)相同
主要技術(shù)指標(biāo)
型號:121
顯影工位: 一個(gè)工位
程序時(shí)間: 顯影1—99秒 漂洗1—99秒 干燥1—99秒
旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù): 500—8000轉(zhuǎn)/分(連續(xù)可調(diào))
硅片直徑: Φ30—Φ75mm
凈化效果: 100級(美國聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn))
操作區(qū)風(fēng)速: 0.3—0.5米/秒
氣流狀態(tài): 垂直層流
外形尺寸: 650Χ750Χ1620mm