化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>原子層沉積設(shè)備>Savannah G2 ALD 全自動原子層沉積系統(tǒng)（ALD）
Savannah G2 ALD 全自動原子層沉積系統(tǒng)（ALD）
- 公司名稱 香港電子器材有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Savannah G2 ALD
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2020/8/27 17:14:14
- 訪問次數(shù) 819
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美國普林斯頓CCD、光譜儀，加拿大Sciencetech太陽能模擬器、BNC延遲脈沖器、Gentec光電探測器、海洋光學(xué)光譜產(chǎn)品、半導(dǎo)體前道產(chǎn)品、Crystalaser激光器、EOS紅外探測器、半導(dǎo)體后道產(chǎn)品
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,航空航天 |
全自動原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn)，已安裝五百多臺ALD設(shè)備。
方式: Thermal ALD (plasma option)
優(yōu)勢: 高性能，低成本，易于操作和維護(hù)
薄膜: 氧化物Al2O3, HfO2, La2O3, Li2O, Li7La3Zr2O12, LiFePO4, SIO2, TiO2, ZnO, ZrO2, Ta2O5, In2O3, SnO2, Fe2O3, MnOx, Nb2O5, MgO, Er2O3, WOx, MoO3, V2O3 硫化物ZnS, SnS, Cu2S, In2S3, Cu2ZnSnS4,PbS, CoS等
反應(yīng)腔體大小: S100: 可達(dá)100 mm / S200: 可達(dá)200 mm / S300: 可達(dá)300 mm
設(shè)備尺寸: S100: 585 x 560 x 980 mm / S200: 585 x 560 x 980 mm / S300: 686 x 560 x 980 mm
操作模式: 連續(xù)模式(高速) / 曝光模式(超高深寬比)
功率: 115 VAC / 220 VAC,1900 W (不包含泵) (S300 2000W)
ZG溫度: S100: RT - 400 °C / S200: RT - 350 °C / S300: RT - 350 °C
沉積均一性: Al2O3：<1% (1σ)
循環(huán)時(shí)間: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C
兼容: 標(biāo)準(zhǔn)二端口，可增加至六端口。每一個源瓶均可放固態(tài)/液態(tài)/氣態(tài)前驅(qū)體，可獨(dú)立加熱至200°C
閥門: 高速ALD閥門，10ms響應(yīng)
前驅(qū)體源瓶: 獨(dú)立可加熱50ml不銹鋼氣瓶，可選擇更大容量
載氣/排氣: N2，100SCCM
原位分析選項(xiàng): 原位QCM, 原位橢便儀, 殘余氣體分析, LVPD, 批量生產(chǎn), 集成手套箱等, 臭氧發(fā)生器, 批量生產(chǎn), 自組裝單層膜(SAMs)顆粒鍍膜, 等離子體加強(qiáng)
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