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化工儀器網(wǎng)>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐>qirui RTP-1200快速退火爐

qirui RTP-1200快速退火爐

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 上海騏銳信息科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 qirui
  • 產地 上海
  • 廠商性質 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2020/10/31 15:31:40
  • 訪問次數(shù) 3342

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上海騏銳信息科技有限公司專注于行業(yè)領域,高低溫介電常數(shù)/高低溫下電性能測試系統(tǒng)/工業(yè)自動化/精密儀器/航空航天高性能材料測試系統(tǒng)、傳感器生產與技術服務。我們以技術創(chuàng)新為核心驅動力,致力于為客戶提供高效、智能、定制化的設備解決方案,助力全球客戶提升生產效率、優(yōu)化產品質量并實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。

核心技術優(yōu)勢:

? 研發(fā)實力

擁有一支由資深工程師、行業(yè)專家及高校科研團隊組成的復合型研發(fā)團隊,累計獲得多項發(fā)明專利及實用新型專利。

? 技術亮點

自主研發(fā)核心產品技術,如:高低溫下介電常數(shù)/材料電性能高低溫測試/模塊化設備架構/能耗優(yōu)化系統(tǒng)等。

采用數(shù)字化仿真/工業(yè)大數(shù)據(jù)分析/虛擬調試等先進技術,縮短研發(fā)周期30%以上。

? 產學研合作

與高校/科研院所名稱建立合作,共同攻關行業(yè)關鍵技術難題。

 

產品與服務體系:

?? 核心產品線

1. 智能生產線集成:面向制造業(yè)的自動化裝配、檢測及自動化測試系統(tǒng)。

2. 專用設備定制:材料測試系統(tǒng)、半導體精密加工設備、新能源電池模組封裝設備等。

3. 智能運維平臺:設備遠程監(jiān)控、預測性維護及數(shù)據(jù)分析服務。

?? 服務模式

- 全生命周期支持:從需求分析、方案設計到安裝調試、售后維保的一站式服務。

 

成功案例

研發(fā)的設備型號獲獎項/認證

服務覆蓋行業(yè)領域,如:汽車制造/生物醫(yī)藥/光伏新能源頭部企業(yè)

我公司與以下國內外廠商建立了長期合作關系:日本安立公司、美國泰克Tektronix 公司、南京盛普、Sample 公司 、美國福祿克Fluke 公司、北京普源精電 、Rigol公司、美國安捷侖Agilent公司、中國臺灣茂迪Motech公司、美國艾法斯 Aeroflex公司、 中國臺灣固緯Goodwill公司、美國吉時利Keithley公司、日本巖崎Iwatsu公司、美國國家儀器NI公司、日本愛德萬 Advantest公司、美國Magtrol公司、德國惠美Hameg公司、韓國Tescom公司、安徽41所、韓國金進 Jungjin公司、常州同惠等。

 

 

電子儀器儀表 材料測試

產地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領域 化工,能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷,電氣

RTP-1200快速退火爐
該儀器:尺寸小巧,使用風冷、無須水冷,電流要求不高(3安培),性價比高,使用方便,非常適合科研院所的科研使用。
 

技術規(guī)格: 
  - 加熱方式:紅外鹵素燈,600W;
  - 紅外燈數(shù)量:4支;
  - 升溫速率:100℃/秒;
  - 降溫速率:50秒(1000℃ → 400℃);
  - 溫度:1200℃;
  - 溫度精度:+/-0.3℃
  - 大樣品尺寸:15 x 20mm;
  - 退火環(huán)境:真空、惰性氣體、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣、氫氮混合氣等);
  - 真空泵及極限壓力:機械泵,10-3Torr水平(選配);
  - 電壓:220 V,單相;
  - 儀器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);
  - 質量:凈重30Kg;

RTP-1200快速退火爐

儀器特點:

  • 可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下,對樣品進行快速熱處理;
  • 溫控精度高;
  • 無須配置冷水機;
  • 無須使用三相電,普通實驗室單相電即可使用;
  • 緊湊的臺式設計;
  • 儀器操作方便,樣片裝取容易;
  • 適合高?;蜓芯克蒲惺褂?;
  • 價格合理,高性價比;
  •  

應用領域:

  • 快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
  • 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
  • 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
  • 硅化 (Silicidation);
  • 擴散 (Diffusion);
  • 化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
  • 離子注入后退火 (Implant Annealing);
  • 電極合金化 (Contact Alloying);
  • 晶體化和致密化 (Crystallization and Densification);
  • 合金熔點分析;
  • 薄膜沉積;
  • 等等…

相關分類

氧化擴散設備


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