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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>Tystar.TYTAN 實驗室用低壓化學氣相沉積設備

Tystar.TYTAN 實驗室用低壓化學氣相沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


  北京朗銘潤德光電科技有限公司是一家在半導體微電子、高精密光學鍍膜領域,光伏、光熱、鋰電池等新能源領域以及窗膜、汽車膜、柔性電路板等行業(yè)提供專業(yè)相關工藝設備的代理公司。
 
  從2006年起與德國著名微電子設備專業(yè)廠家FHR公司開始合作,并于2008年成為其中國區(qū)的代理機構。通過我們的合作,使 FHR的產品逐漸進入中國,并成為國內鍍膜設備的供貨商。
 
  我們于 2010 年在北京石景山中關村高科技園區(qū)成立了專業(yè)代理國外微電子半導體及相關設備的北京朗銘潤德光電科技有限公司,并與*技術供貨商建立合作關系,為公司全面化運轉及操作奠定了良好開端。
 
  我們堅持品味與個性、規(guī)范與強大、敬業(yè)與專注的理念,以化的視野、以技術和高品位的產品、高尚的商德、高水準的服務取信于用戶,取信于市場。憑借良好的現代企業(yè)運行機制、“應用是驅動”和“以人為本”的發(fā)展理念,造就了一支富有激情、技術過硬的團隊,為公司的高速發(fā)展打下了堅實的基礎。
 
  北京朗銘潤德光電科技有限公司在向客戶提供產品的同時,更向客戶提供服務;為客戶著想,與客戶共求發(fā)展,共創(chuàng)雙贏: 朗銘值得您的信賴與期待!

鍍膜機,氣體控制系統(tǒng),快速退火爐,閥門

產地類別 進口 應用領域 環(huán)保,化工,能源,電子/電池,汽車及零部件

LPCVD/常壓CVD 實驗室用低壓化學氣相沉積設備詳情:

一、關鍵設計和性能特性包括:

  1. 創(chuàng)新性熱能設計
  2. 占地空間小
  3. 優(yōu)良的工藝均勻性
  4. 設備開機率優(yōu)于 95%
  5. 龐大的客戶網絡
  6. 專家服務
  7. 節(jié)省(50%)電能和氣體消耗
  8. 便于保養(yǎng)和服務

二、常壓工藝:

  1. 氧化工藝(濕法,干法)
  2. 固態(tài)源擴散(BN,P2O5)
  3. 液態(tài)源擴散(POCl3,BBr3)
  4. 退火
  5. 納米材料
  6. 燒結+合金


三、低壓化學氣相沉積和工藝:

  1. 摻雜多晶硅和非晶硅 LPCVD
  2. 多晶硅 LPCVD(使用硅烷或乙硅烷)
  3. 低溫氧化硅,摻雜性低溫氧化硅,硼磷硅玻璃,硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD
  4. 高溫氧化硅LPCVD
  5. TEOS氧化硅LPCVD
  6. 氮化硅LPCVD(低應力型,標準型)
  7. 硅鍺(Si-Ge)LPCVD
  8. 摻氧半絕緣多晶硅,碳化硅
  9. 外延硅
  10. 納米材料LPCVD

四、關鍵設計和性能特點:

  1. 創(chuàng)新性熱能設計
  2. 占地空間小
  3. 優(yōu)良的工藝均勻性
  4. 設備開機率優(yōu)于95%
  5. 龐大的客戶網絡
  6. 專家服務
  7. 節(jié)?。?0%)電能和氣體消耗
  8. 便于保養(yǎng)和服務


TYTAN爐系統(tǒng)對照表:

爐系統(tǒng)型號 1600 1800 3600 3800 4600
襯底尺寸 6’’ 8’’ 6’’ 8’’ 6’’
爐管數量 1 TUBE 1 TUBE 3 TUBES 3 TUBES 4 TUBES
單管產能 100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
恒溫區(qū)長度 18’’/457 mm 18’’/457 mm 18’’/457 mm 18’’/457 mm 18’’/457 mm
設備尺寸
(長度, 高度, 寬度)
L 63’’/1600 mm L 63’’/1600 mm L 126’’/3200 mm L 134’’/3404 mm L 127’’/3226 mm
H 54’’/1372mm H 54’’/1372mm H 69’’/1753mm H 82’’/2083mm H 82’’/2083mm
D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm
*大消耗電功率 18 KVA 28 KVA 40 KVA 45 KVA 50 KVA

 實驗室用低壓化學氣相沉積設備



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