化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>Tystar.TYTAN 實(shí)驗室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
Tystar.TYTAN 實(shí)驗室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京朗銘潤德光電科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Tystar.TYTAN
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2021/4/28 15:02:01
- 訪問次數(shù) 1375
產(chǎn)品標(biāo)簽
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,電子/電池,汽車及零部件 |
|---|
LPCVD/常壓CVD 實(shí)驗室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備詳情：
一、關(guān)鍵設(shè)計和性能特性包括:
- 創(chuàng)新性熱能設(shè)計
- 占地空間小
- 優(yōu)良的工藝均勻性
- 設(shè)備開機(jī)率優(yōu)于 95%
- 龐大的客戶網(wǎng)絡(luò)
- 專家服務(wù)
- 節(jié)省(50%)電能和氣體消耗
- 便于保養(yǎng)和服務(wù)
二、常壓工藝：
- 氧化工藝（濕法，干法）
- 固態(tài)源擴(kuò)散（BN,P2O5）
- 液態(tài)源擴(kuò)散（POCl3,BBr3）
- 退火
- 納米材料
- 燒結(jié)+合金
三、低壓化學(xué)氣相沉積和工藝：
- 摻雜多晶硅和非晶硅 LPCVD
- 多晶硅 LPCVD（使用硅烷或乙硅烷）
- 低溫氧化硅，摻雜性低溫氧化硅，硼磷硅玻璃，硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD
- 高溫氧化硅LPCVD
- TEOS氧化硅LPCVD
- 氮化硅LPCVD（低應(yīng)力型，標(biāo)準(zhǔn)型）
- 硅鍺（Si-Ge）LPCVD
- 摻氧半絕緣多晶硅，碳化硅
- 外延硅
- 納米材料LPCVD
四、關(guān)鍵設(shè)計和性能特點(diǎn)：
- 創(chuàng)新性熱能設(shè)計
- 占地空間小
- 優(yōu)良的工藝均勻性
- 設(shè)備開機(jī)率優(yōu)于95%
- 龐大的客戶網(wǎng)絡(luò)
- 專家服務(wù)
- 節(jié)省（50%）電能和氣體消耗
- 便于保養(yǎng)和服務(wù)
TYTAN爐系統(tǒng)對照表：
| 爐系統(tǒng)型號 | 1600 | 1800 | 3600 | 3800 | 4600 |
| 襯底尺寸 | 6’’ | 8’’ | 6’’ | 8’’ | 6’’ |
| 爐管數(shù)量 | 1 TUBE | 1 TUBE | ≤3 TUBES | ≤3 TUBES | ≤4 TUBES |
| 單管產(chǎn)能 | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD | 100 ATM 50 LPCVD |
| 恒溫區(qū)長度 | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm | 18’’/457 mm |
| 設(shè)備尺寸 (長度, 高度, 寬度) | L 63’’/1600 mm | L 63’’/1600 mm | L 126’’/3200 mm | L 134’’/3404 mm | L 127’’/3226 mm |
| H 54’’/1372mm | H 54’’/1372mm | H 69’’/1753mm | H 82’’/2083mm | H 82’’/2083mm | |
| D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | D 30’’/762 mm | |
| *大消耗電功率 | 18 KVA | 28 KVA | 40 KVA | 45 KVA | 50 KVA |
實(shí)驗室用低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備
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