POLOS µ SPS光刻機(jī)
- 公司名稱 上海跡亞國(guó)際商貿(mào)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) POLOS µ
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2021/6/2 9:51:02
- 訪問(wèn)次數(shù) 1069
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生命科學(xué),實(shí)驗(yàn)動(dòng)物研究,藥物開(kāi)發(fā),有機(jī)合成,材料科學(xué)/納米技術(shù),清潔能源研究
應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)林牧漁 |
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SPS光刻機(jī)主要特點(diǎn):
1、寫(xiě)入分辨率低至2 μm
2、可調(diào)整的寫(xiě)作領(lǐng)域和具有可互換目標(biāo)的解決方案
3、與CAD文件或位圖圖像兼容
4、與g線光刻膠兼容
5、兼容多種基材(硅,玻璃,金屬,塑料等)
6、兼容任何樣品尺寸達(dá)4英寸的晶片
7、相機(jī)反饋以進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)步驟
8、由于沒(méi)有硬掩模,節(jié)省了時(shí)間和金錢(qián)
9、將設(shè)計(jì)直接覆蓋在樣品上的直觀對(duì)齊方法
10、占地面積小的桌面
11、非常適合微電子,2D材料,微流體,光電,opty或任何其他2D微加工應(yīng)用的技術(shù)
SPS光刻機(jī)技術(shù)參數(shù)
1、光源曝光:435 nm; 對(duì)準(zhǔn):525 nm
2、小特征尺寸:2至23 μm可調(diào)
3、對(duì)準(zhǔn)分辨率:低至1 μm / cm2
4、大曝光面積:75 x75 mm2
5、基板尺寸:大4”晶圓
6、系統(tǒng)尺寸:W:(36厘米); D:(36厘米); 高:(60厘米)
7、多合一PC:Win 10、24英寸全高清
8、SFTprint軟件:機(jī)器控制,步進(jìn)重復(fù),自動(dòng)劑量測(cè)試,縫合,對(duì)齊
9、SFTconverter:將標(biāo)準(zhǔn)格式(gdsii,dxf,cif,oas)轉(zhuǎn)換為位圖圖像。 隨附的CAD軟件