摩方精密3D打印
- 公司名稱 深圳摩方新材科技有限公司
- 品牌 摩方精密
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 廣東深圳
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/18 18:17:47
- 訪問(wèn)次數(shù) 5828
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 | 光學(xué)精度 | 10μm |
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一、摩方精密3D打印產(chǎn)品介紹
nanoArch®是采用PUSL（面投影微立體光刻）技術(shù)，用于實(shí)現(xiàn)高精度多材料微納尺度3D打印的設(shè)備。通過(guò)將紫外光投影到液態(tài)樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產(chǎn)品的制作。通過(guò)一次曝光可以完成一層的制作。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有超高打印精度和超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
二、摩方精密3D打印產(chǎn)品特性
1、可定制高定位精度的光學(xué)系統(tǒng)和運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，兩者最高分辨率皆可達(dá)到20μm。
2、采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。
3、通過(guò)工藝技術(shù)控制，實(shí)現(xiàn)3D打印成品的表面光滑。
4、光學(xué)方面：光學(xué)實(shí)時(shí)監(jiān)控，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)對(duì)焦及曝光補(bǔ)償。
5、軟件系統(tǒng)：nanoArch圖形界面控制系統(tǒng)，參數(shù)端口開(kāi)放。
三、使用環(huán)境要求
1、需避免的場(chǎng)合：
垃圾、灰塵、油霧多的場(chǎng)所；
震動(dòng)以及沖擊多的場(chǎng)所；
能觸及藥品和易燃易爆物的場(chǎng)所；
高頻干擾源附近的場(chǎng)所；
溫度會(huì)急劇變化的場(chǎng)所；
在CO2、NOX、SOX等濃度高的環(huán)境中。
2、環(huán)境濕度：40%-60%
3、環(huán)境溫度：25±3℃
4、電力需求：
100-240V/單相/50/60Hz/15A；
供電電網(wǎng)波動(dòng)：＜5%；
電網(wǎng)地線符合機(jī)房國(guó)標(biāo)要求。
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