大華CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機(jī)特點(diǎn)：

■ 采用多層隔板設(shè)計(jì)，批量處理模壓光學(xué)鏡片的碳鍍膜工藝，每爐可放數(shù)千個(gè)鏡片；

■ 智能化PLC程序升溫程序，真空程序，CVD進(jìn)氣程序，操作簡單方便；

■ 優(yōu)質(zhì)干式真空泵，杜絕油液污染，可選擇國產(chǎn)干式泵和進(jìn)口干式泵；

■ 智能化CVD進(jìn)氣控制系統(tǒng)，適應(yīng)于氮?dú)?、乙?甲烷、氬氣、空氣的通入和混合；

■ *的密封系統(tǒng)，泄漏率低，長期使用穩(wěn)定性高；

大華CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機(jī)詳細(xì)資料：

主要用途

■ 適用于模壓非球面光學(xué)玻璃鏡片的碳鍍膜工藝；

■ 適應(yīng)于半導(dǎo)體行業(yè)晶圓表面薄膜生長；

■ 可用于陶瓷及單晶體表面沉積碳納米管工藝；

產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品型號(hào)： DH-30-700（大華）

使用溫度：650℃；

使用氣氛： 氮?dú)狻鍤?、空氣、二氧化?/span>、乙炔、甲烷、合氣體；

長期使用：400-700℃；

波 動(dòng) 度： ±1℃；

顯示精度： 0.1℃；

均 勻 度： 容積30L；

進(jìn)氣流量：三路MFC質(zhì)量流量計(jì)控制，一路浮子流量計(jì)控制；

升降系統(tǒng)： 兩套伺服升降系統(tǒng)平臺(tái)；

控制系統(tǒng)：智能程序化PLC控制系統(tǒng)；

真空泵真空度： 極限真空1Pa；

腔內(nèi)真空度：≤10Pa；

降溫要求：外置冷卻風(fēng)機(jī)，降溫階段強(qiáng)制降溫；

整機(jī)功率： 18KW；

電 源 ： 380V, 50Hz；

水冷裝置：優(yōu)質(zhì)水冷機(jī),PLC聯(lián)機(jī)控制

保護(hù)裝置： 過載、過流、過壓保護(hù)，接地，熱電偶異常報(bào)警，第二回路超溫報(bào)警保護(hù)裝置；冷卻水溫保護(hù)，壓力過載保護(hù)；

技術(shù)服務(wù)： 提供設(shè)備使用過程中的技術(shù)咨詢和支持，接到客戶故障通知3個(gè)工作時(shí)內(nèi)立即響應(yīng)。