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GVC-2000T 高真空磁控離子濺射儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京格微儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) GVC-2000T
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/1/2 17:27:49
  • 訪問次數(shù) 3629

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  北京格微儀器有限公司長期致力于打造以用戶體驗(yàn)為中心的材料表征領(lǐng)域、材料表面改性等儀器設(shè)備研發(fā)制造,產(chǎn)品包括:磁控離子濺射儀,高真空磁控離子濺射儀,手套箱鍍電極制備鍍膜儀,微納器件制備鍍膜儀,高真空鍍碳儀。公司總部位于北京海淀中關(guān)村,有多名多年從事真空技術(shù)、電子光學(xué)、離子光學(xué)、表面物理、材料制備等技術(shù)人員聯(lián)合發(fā)起,團(tuán)隊(duì)全部為碩士以上學(xué)歷或高級(jí)職稱,具備專業(yè)的表面分析、結(jié)構(gòu)分析、原位分析等應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),在科研、產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域,沉浸多年,具備獨(dú)立設(shè)計(jì)、項(xiàng)目承擔(dān)、生產(chǎn)制造等綜合能力。當(dāng)前聚焦于具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)并具備國際競爭力的電子顯微鏡樣品制備設(shè)備,并在眾多高校院所和產(chǎn)業(yè)單位得到青睞。

離子濺射儀、熱蒸發(fā)鍍碳儀

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合 濺射電壓 300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流 0-200mA連續(xù)可調(diào),步長10mA 濺射時(shí)間 0-9999s,?連續(xù)可調(diào)步長1s
樣品臺(tái)直徑 ≥90mm 真空室 高硅硼玻璃,規(guī)格尺寸約φ170×130mm

沒有熱損傷,效率更高,顆粒度更細(xì),更適合高分辨電鏡。
高真空磁控離子濺射儀應(yīng)用領(lǐng)域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備(實(shí)際放大倍數(shù)≥100K)。
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。

設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)

名稱&型號(hào)高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T
真空系統(tǒng)渦輪分子泵(進(jìn)口 ):德國萊寶90i (單磁懸浮分子泵,抽速為90L/s)
旋片式真空泵:浙江飛越VRD-4 (抽速為 1 .1L/s)
真空測量全量程復(fù)合真空規(guī)(進(jìn)口):丹麥Sens4 VPM-5
量程范圍:1.0E5Pa-1E-4Pa
系統(tǒng)極限真空≤5E-3Pa
濺射電源磁控濺射電源,最大功率150W
可用靶材金、鉑金、銀、銅、鋁、鈦、鎳、鐵、鉬、鎢等金屬靶材
濺射電壓300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流0-200mA連續(xù)可調(diào),步長10mA
濺射時(shí)間0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長1s
操作界面7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
抽氣節(jié)拍<15分鐘
控制方式只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可,全自動(dòng)控制
具備預(yù)濺射擋板(預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制
保護(hù)功能軟硬件互鎖、防止誤操作,具備電流、真空保護(hù)等
樣品臺(tái)直徑≥90mm
真空室高硅硼玻璃,規(guī)格尺寸約φ170×130mm
電源供電220V 50Hz 最大功率800W
尺寸&重量重量 420(長) ×330(深) ×450mm(高)、 25 kg (凈重)
冷卻方式風(fēng)冷
選配樣品臺(tái)選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測等

鍍膜樣品示例:

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