平臺遮光罩大多數(shù)光學(xué)實驗或工業(yè)生產(chǎn)都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導(dǎo)致儀器測量結(jié)果的不穩(wěn)定性和不準(zhǔn)確性，嚴(yán)重干擾生產(chǎn)和實驗的進行，振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內(nèi)部的振動，地面固有振動，工作人員踩踏地板以及開、關(guān)門或墻壁碰撞等通過地面?zhèn)鱽淼恼駝泳鶎傧到y(tǒng)之外的振動，這一類振動需通過光學(xué)平臺的隔振支架衰減；而來自系統(tǒng)內(nèi)部的振動包括儀器振動、氣流、冷卻水流等，則需依靠光學(xué)平臺的桌面阻尼來隔絕。

  隨著光學(xué)加工設(shè)備和測量儀器精度的不斷提高， 其對工作環(huán)境的振動隔離提出了更加嚴(yán)苛的要求。例如，離子激光器泵浦噴流染料激光器時，激光器的振動要求達到了微米級；由于可見光波長約為0.5微米，即使振動在次微米級別時，以光的干涉為基礎(chǔ)的實驗（如全息攝影） 也將無法進行； LμmArray 公司的并行激光直寫設(shè)備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機械加工的表面粗糙度要求已經(jīng)達到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達到亞納米級。因此，對光學(xué)加工設(shè)備及光學(xué)測量儀器進行有效的隔振是保證科研生產(chǎn)活動正常進行的必要條件。

同時，對于大型精密光學(xué)儀器來說，其除了有近乎嚴(yán)苛的隔振要求外，儀器本身往往還具有較大的體積和質(zhì)量，這對作為隔振基礎(chǔ)的光學(xué)隔振平臺的承載能力和工作空間也提出了更進一步的要求。因此，隔振性能好、承載能力強、工作空間大的大型或超大型精密光學(xué)隔振平臺具有了較大的市場需求。

創(chuàng)譜儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的光學(xué)隔振平臺廣泛的應(yīng)用于精密科研光學(xué)試驗、加工及測量中，是您理想的選擇。

平臺遮光罩雜散光會給探測器和實驗帶來不利的影響。對于高增益探測系統(tǒng)，由于信號在房間自然光情況下極易飽和，遮光材料尤其有益。在橢圓光度法和某些偏振測量技術(shù)中，背景光的調(diào)制信號對于精密測量有不利影響，遮光材料是消除這種影響的理想材料。

創(chuàng)譜遮光罩提供了一個不透光的操作空間，可以在里面進行圖像測量、感光操作或者其它需要黑暗空間的光學(xué)測量、光路搭建。