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DM200-SE 全封閉顯影機

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      江蘇雷博科學儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業(yè)的實驗室儀器開發(fā)為目標的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。公司主營高檔實驗室儀器及半導體設備開發(fā)業(yè)務。公司技術 力量雄厚,人才濟濟,憑借雄厚的技術實力不斷進行新產品開發(fā)和創(chuàng)新實現, 在納米薄膜制備類儀器領域取得了顯著的市場地位。公司生產的高精度高可 靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術產品,是國內勻膠機全系列、多功能、定制 化服務的供應商。

      公司生產和銷售不同領域的高檔科研儀器和工業(yè)半導體設備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、 烤膠機、提拉機、噴膠機、涂膜機、狹縫涂布機等相關產品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導體設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、蝕刻機、 去膠機、清洗機等獨立柜式機臺及工業(yè)全自動機臺。 公司產品被廣泛應用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導體及先進封裝等領域,具有核心技 術可靠、高性價比、定制化服務的競爭優(yōu)勢。

 

勻膠機、顯影機、烤膠機、刻蝕機、清洗機

產地類別 國產 應用領域 化工,生物產業(yè),能源,電氣,綜合
  全封閉顯影機優(yōu)勢
 
  ·全封閉式顯影,避免霧氣擴散到外部,污染環(huán)境。
 
  ·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。
 
  ·內腔鍍特氟龍,光滑,耐腐蝕,易清洗。
 
  ·內置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。
 
  ·真空壓力可調,壓力值實時顯示。
 
  ·液體流量可調,回吸可調。
 
全封閉顯影機
全封閉顯影機參數
 
  支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圓晶)
 
  ·轉速分辨率:±1 RPM
 
  ·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
 
  ·旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)
 
  ·工藝時間設定: 0-3,000sec/step,時間設置精度: 0.1sec
 
  ·該機型適用于標準3路顯影機(1路洗衣液,1路純水,1路氮氣)
 
  ·單步工藝及多步工藝可選,內置100組可編輯程序
 
  ·可根據客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。
 
  設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動,實現自動顯影和清洗作業(yè)。
 


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