BV-10鍛針儀使用簡(jiǎn)單，可對(duì) 0.1 至 100 µm 的顯微注射針尖進(jìn)行精確消磨。sutter鍛針儀的磨盤(pán)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)可以無(wú)振動(dòng)更好地控制研磨過(guò)程。

細(xì)胞內(nèi)記錄電極需要進(jìn)行斜切處理，因?yàn)椋?/span>

l  通過(guò)在電極上磨出尖點(diǎn)來(lái)減小針尖直徑

l  由于管腔的橫截面積變大，電極的電阻降低。

這樣可以更容易穿透細(xì)胞外壁，顯微注射針尖也需要斜切，它可以促進(jìn)針尖以最小的直徑進(jìn)入細(xì)胞，避免損傷細(xì)胞，同時(shí)還可以增加針尖注射液體的通過(guò)性。

磨針儀的研磨系統(tǒng)由一個(gè)固定的基座組成，它具有半波 (250 nm) 的光滑平面，表面安裝在沉重的基板上用作磨盤(pán)的軸承，磨盤(pán)的表面也是半波的光滑平面。低速電機(jī)通過(guò)履帶帶動(dòng)底部基座，再通過(guò)磁力吸附平面磨盤(pán)從而提供無(wú)擺動(dòng)的研磨表面。

一個(gè)二軸顯微操作器將移液管固定在斜面上，并通過(guò)微分旋鈕將移液管推到研磨表面上。斜角和推進(jìn)速度可調(diào)。并且?guī)в蠰ED 燈為磨盤(pán)和移液管提供照明來(lái)幫助研磨操作。

磨針儀系統(tǒng)帶有兩個(gè)可選的兩個(gè)磨盤(pán)、一個(gè)帶支架的面布條（用于打濕磨盤(pán)）、底座油、脫脂液和手冊(cè)。

有兩個(gè)選件可用于監(jiān)控研磨過(guò)程，一個(gè) 40X 體式顯微鏡和一個(gè)電極阻抗計(jì). 根據(jù)您的研究應(yīng)用來(lái)進(jìn)行選購(gòu)。對(duì)于研磨顯微注射針的應(yīng)用，需要選擇體式顯微鏡來(lái)觀察移液管前推到磨盤(pán)上的控制精度。對(duì)于微電極的應(yīng)用，阻抗計(jì)用于監(jiān)測(cè)研磨操作期間的針尖電阻。該儀表采用模擬電路設(shè)計(jì)，提供三個(gè)電阻范圍（0-10、0-100、0-500 MOhm）。以 12 Hz 的頻率進(jìn)行測(cè)量，有效地減少測(cè)量阻抗，并提供最真實(shí)的直流電阻值，減小 50/60 Hz 干擾，

特征

1.         無(wú)振動(dòng)、磁吸磨盤(pán)

2.         磨盤(pán)表面光滑平整度達(dá)到半波 (250 nm)

3.         具有精細(xì)的磨盤(pán)

4.         轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)具有穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速

5.         7 磅重的鋼底板增加穩(wěn)定性

6.         一體式LED燈

7.         顯微操縱器穩(wěn)定控制斜角和前推研磨