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MA12 有掩膜光刻機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

特征尺寸 優(yōu)于0.5微米 基片尺寸 滿足4、6、8、12英寸

1.產(chǎn)品概述:

MA12是專為對準(zhǔn)和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設(shè)計(jì)的,適合于工業(yè)研究和生產(chǎn)。憑借靈活處理和過程控制解決方案,本設(shè)備主要用于優(yōu)良封裝,包括3D圓晶級芯片尺寸封裝, 以及開發(fā)和生產(chǎn)敏感元件,如MEMS。。

2.產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)

一個(gè)涵蓋微觀到納米壓印的工具

能夠可靠地處理彎曲晶圓片和敏感材料

高的光均勻性

強(qiáng)大的工藝控制

增強(qiáng)的SUSS調(diào)平系統(tǒng)

占地面積小,增強(qiáng)了人機(jī)工程學(xué)特性

3.產(chǎn)品工藝

頂面對準(zhǔn):在光刻工藝中,只需對準(zhǔn)器件晶圓同側(cè)的結(jié)構(gòu)(例如再布線層、微凸點(diǎn) 等),用頂部對準(zhǔn)功能將掩模位置標(biāo)記對準(zhǔn)晶圓位置標(biāo)記。 根據(jù)襯底的特性,這可以用存儲(chǔ)的晶圓位置數(shù)據(jù)或者用兩個(gè)現(xiàn)場照片 SUSS MicroTec 開發(fā)的DirectAlign™ 直接對準(zhǔn)技術(shù)實(shí)現(xiàn)。

背面對準(zhǔn):應(yīng)用微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)、圓晶級封裝和三維集成的工藝,例如在接板上制造垂直通孔 (TSV),需要與正面結(jié)構(gòu)對準(zhǔn)的晶圓背面結(jié)構(gòu)。 此時(shí)常使用光學(xué)背面對準(zhǔn)。 集成攝像機(jī)系統(tǒng)采集掩模結(jié)構(gòu)和晶片背面結(jié)構(gòu)并將它們相互對準(zhǔn)。 由于晶圓在裝載掩模靶后被覆蓋,必須預(yù)先確定并存儲(chǔ)其位置。 這對整個(gè)對準(zhǔn)系統(tǒng)提出了特殊的要求。

提高對準(zhǔn)精度:當(dāng)對套刻精度有較高要求時(shí),大大提升標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)的自動(dòng)對準(zhǔn)功能。DirectAlign®,SüSS MicroTecs 圖像識(shí)別軟件附加功能,放棄圖片存儲(chǔ)系統(tǒng)中的結(jié)構(gòu)圖文件,取而代之的是訪問實(shí)況圖。結(jié)構(gòu)識(shí)別基于工業(yè)標(biāo)準(zhǔn) PatMax 且取得了優(yōu)異成績。因此,在 SUSS 掩模對準(zhǔn)器上用 Direct Align® 進(jìn)行頂面對準(zhǔn)時(shí)對準(zhǔn)精度可達(dá)到 0.5 微米。

晶圓和掩模輔助裝片:操作者輔助的系統(tǒng),與人工晶圓把持的優(yōu)勢相結(jié)合,保持了高度的工藝可控與可靠性。




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