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金屬熱蒸鍍設備

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發(fā)和應用。專業(yè)的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域 環(huán)保,化工,電子/電池

金屬熱蒸鍍設備

熱蒸發(fā)是物理氣相沉積(PVD)中常用方法,也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機和無機薄膜,其中以電阻式加熱法最為常見的。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點為它們可以提供一種簡單的薄膜沉積方法,以電流通過其容納材料的舟為方式,從而加熱材料。當沉積材料的蒸氣壓超過真空室的溫度時,材料將開始蒸發(fā)並沉積到基板上。

SYSKEY金屬熱蒸鍍設備的熱蒸發(fā)可以精準的控制蒸發(fā)速度,且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3%。

離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度,並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。

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應用領域腔體
  • 金屬材料研究。

  • 奈米薄膜。

  • 太陽能電池

 

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸

    和其應用。

  • 寬大的前開式門,並有兩個視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑為12寸

    晶圓或470 x 370 mm2(玻璃)

  • 寬大的前開式門,並有兩個視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 具有順序操作或共沉積的多個蒸發(fā)源

  • 基板可加熱到800°C。

  • 利用載臺旋轉來改善薄膜沉積之品質。

  • 基板至蒸發(fā)源之間距為可調式的。

  • 每個蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套

    箱整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、電子束、

    等離子清潔...。

  • 基板冷卻。

  • 殘留氣體分析儀。




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