Uniscan M470

微區(qū)掃描電化學(xué)工作站基于電化學(xué)掃描探針設(shè)計(jì)，具有超高測量分辨率及空間分辨率的非接觸式微區(qū)形貌及電化學(xué)微區(qū)測試系統(tǒng)，快速精準(zhǔn)的閉環(huán)定位系統(tǒng)為電化學(xué)掃描探針納米級研究的需求而特別設(shè)計(jì)。目前已迭代至第四代掃描探針系統(tǒng)，是最靈活的電化學(xué)掃描探針工作平臺，適配多種探針技術(shù)和不同模塊。

一、9種探針技術(shù)

1.掃描電化學(xué)顯微系統(tǒng)（SECM）

2.交流掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)（ac-SECM）

3.間歇接觸掃描電化學(xué)顯微鏡系統(tǒng)（ic-SECM）

4.微區(qū)電化學(xué)阻抗測試系統(tǒng)(LEIS)

5.掃描振動點(diǎn)擊測試系統(tǒng)（SVET）

6.電解液微滴掃描系統(tǒng)（SDS）

7.交流電解液微滴掃描系統(tǒng)（ac-SDS）

8.掃描開爾文探針測試系統(tǒng)（SKP）

9.非觸式微區(qū)形貌測試系統(tǒng)（OSP）

二、M470 微區(qū)掃描電化學(xué)工作站特征：

1.SECM自動處理曲線。

2.SECM用戶自定義處理曲線步長變化。

3.高分辨率讀取。

4.手動或自動調(diào)節(jié)相位。

5.傾斜校正。

6.X或Y曲線相減（5階多項(xiàng)式）。

7.2D或3D快速傅里葉變化。

8.實(shí)驗(yàn)，探針移動和區(qū)域繪圖的自動排序。

9.圖形實(shí)驗(yàn)測序引擎（GESE）。

10.支持多區(qū)域掃描。

11.所有實(shí)驗(yàn)多個(gè)數(shù)據(jù)視圖。

12.峰值分析。

三、掃描工作臺（適配所有探針技術(shù)）                

1.掃描范圍（x,y,z）：大于100mm

2.掃描驅(qū)動分辨率 ：高0.1nm

3.閉環(huán)定位：線性零滯后編碼器，直接實(shí)時(shí)讀出x,z和y位移

4.軸分辨率（x,y,z）：20nm

5.大掃描速度：12.5mm/s

四、壓電（ic-和ac-掃描探針技術(shù)）

1.振動范圍：20nm~ 2μm峰與峰之間1nm增量

2.最小振動分辨率：0.12nm(16-bit DAC,4μm)

3.壓電晶體伸展：100μm

4.定位分辨率 ：0.09nm(20-bit DAC ,100μm)