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Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機

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北京領宇天際科技有限責任公司成立于2014年, 位于北京市臨空經(jīng)濟區(qū)順義南法信,是一家專門從事材料分析鑒定和研究保護技術及航天材料地面空間環(huán)境模擬試驗,潤滑管理的專業(yè)化公司。公司主營業(yè)務產(chǎn)品范圍涉及藝術品修復、藝術品保護及航天材料分析,工業(yè)設備潤滑監(jiān)測三大領域。

北京領宇天際科技有限責任公司:
SimulTek Research公司中國地區(qū)銷售認證技術服務;
Surface Optics公司中國地區(qū)文化遺產(chǎn)領域合作代理商和技術服務商。

我們成功為國內的專家學者及相關領域的客戶提供專業(yè)儀器設備及解決方案。

 

 

 

石油化工,藝術檢測、航空航天

產(chǎn)地類別 進口 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),航空航天,制藥/生物制藥

Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機

在需要長時間曝光和高靈敏度的科學成像領域(例如化學發(fā)光檢測、生物熒光成像、活體成像等生命科學領域及天文學觀測),相機的性能直接決定了實驗結果的可靠性與精度。Atik Cameras ChemiMOS憑借其零安培輝光(Zero Amp Glow)、超低噪聲設計以及像素滿阱容量,成為科學級成像系統(tǒng)的核心組件。

Atik ChemiMOS 在需要捕捉極為微弱信號的弱光成像條件下,滿足科學系統(tǒng)集成成像方面的要求。以耶拿分析公司的 UVP ChemSolo Auto 成像儀為例,該成像儀在面對需要長時間曝光圖像的任務時,Atik ChemiMOS 的高靈敏度、長時間曝光(支持數(shù)小時連續(xù)曝光)、零安培輝光和低噪聲設計以及高量子效率,ChemiMOS能夠很好的應用在UVP ChemSolo Auto 成像儀,為科研人員提供了可靠的數(shù)據(jù)支持。


Atik ChemiMOS主要技術亮點:

l低暗電流:極限低的暗電流為0.0005 e-/p/s,這意味著由于熱累積而引起的噪聲成分極限低,允許在幾十分鐘到幾小時內以最小的暗電流噪音進行曝光。例如化學發(fā)光反應的動態(tài)過程或深空天體的極暗光譜。

Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機 

零安培輝光:使用索尼IMX傳感器,ChemiMOS相機零安培輝光。可以得到更好的拍攝數(shù)據(jù)。

Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機 

    l 低噪聲性能出色:采用零安培輝光和低噪聲設計,能有效抑制長時間曝光過程中產(chǎn)生的噪聲,相比一些傳統(tǒng)弱光成像技術,在長時間曝光時圖像更清晰,噪聲干擾少。

Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機 

· 動態(tài)范圍優(yōu)秀:極低的讀噪聲和深像素滿阱的結合,使其能夠捕捉到從極微弱到相對較強的光信號強度,動態(tài)范圍表現(xiàn)優(yōu)于許多同類技術,可更全面地呈現(xiàn)弱光環(huán)境下的細節(jié)信息。

Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機 

 

· 冷卻系統(tǒng)優(yōu)化:優(yōu)化后的冷卻系統(tǒng)可減少暗電流,且無需特殊低溫條件就能滿足復雜設計需求。這相較于一些依賴特殊低溫來降低噪聲的弱光成像技術,降低了設備運行成本和難度,提高了穩(wěn)定性和適用性。

· 校準靈活簡便:校準程序包括暗幀減法和離機圖像處理,具有靈活性和透明度,無需頻繁重新校準,為用戶帶來便利,節(jié)省了時間和精力,提高了工作效率。

· 集成與OEM我們利用在OEM應用中開發(fā)相機的豐富經(jīng)驗,通過協(xié)作定制的方式為您提供量身定制的相機選項。

· 供應鏈穩(wěn)定:ChemiMOS能確保長期的供應鏈穩(wěn)定性,在科學研究中,設備的持續(xù)供應和技術的不斷支持至關重要。Atik ChemiMOS 憑借其可靠的供應鏈體系,為科研機構和企業(yè)提供了堅實的保障,使得他們在開展長期的科研項目時,無需擔憂設備供應中斷的問題。

Atik ChemiMOS長曝光弱光成像CMOS科學相機

Atik ChemiMOS的應用不限于:


•     化學發(fā)光       • 凝膠電泳成像   •   熒光顯微成像       • 中子成像

•PCR and qPCR        • 光譜成像   熒光標記的DNA修復過程        •生物熒光成像

如超新星殘骸的光譜采集      •天體深空觀測   

Atik全系列產(chǎn)品均可以進行定制,從軟件功能或機械結構改變,到全新的設計,以滿足您最終的應用需求。





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