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EMPX-H2低溫磁場探針臺

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EMPX-H2探針臺低溫探針臺

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  • 我們是誰

    美國Quantum Design公司是科學(xué)儀器制造商,其研發(fā)生產(chǎn)的系列磁學(xué)測量系統(tǒng)及綜合物性測量系統(tǒng)已成為業(yè)內(nèi)進(jìn)的測量平臺,廣泛分布于全球材料、物理、化學(xué)、納米等研究域的科研實驗室。Quantum量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司(暨Quantum Design中國子公司) 成立于2004年,是美國Quantum Design公司設(shè)立的諸多子公司之,在全權(quán)負(fù)責(zé)美國Quantum Design公司本部產(chǎn)品在中國的銷售及售后技術(shù)支持的同時,還致力于和范圍內(nèi)物理、化學(xué)、生物域的科學(xué)儀器制造商進(jìn)行密切合作,幫助中國市場引進(jìn)更多全球范圍內(nèi)的質(zhì)設(shè)備和技術(shù),助力中國科學(xué)家的項目研究和發(fā)展。

  • 我們的理念

    Quantum Design中國的長期目標(biāo)是成為中國與進(jìn)行進(jìn)技術(shù)、進(jìn)儀器交流的重要橋頭堡。助力中國科技發(fā)展的十幾年中,Quantum Design中國時刻保持著積進(jìn)取、不忘初心、精益求精的態(tài)度,為中國科學(xué)家提供更質(zhì)的科學(xué)和技術(shù)支持。隨著中國科學(xué)在舞臺變得愈加舉足輕重,Quantum Design中國將繼續(xù)秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中國科技蓬勃發(fā)展,助力中國科技在騰飛!

  • 我們的團隊

    Quantum Design中國擁有支具備強大技術(shù)背景、職業(yè)化工作作風(fēng)的團隊,并致力于培養(yǎng)并引進(jìn)更多博士業(yè)技術(shù)人才。目前公司業(yè)務(wù)團隊高學(xué)歷業(yè)碩博人才已占比超過70%以上,高水平人才的不斷加入和日益密切的團隊配合幫助QD中國實現(xiàn)連續(xù)幾年銷售業(yè)績的持續(xù)增長

  • 我們的服務(wù)

     

  • Quantum Design中國擁有完善的本地化售前、售中和售后服務(wù)體系。國內(nèi)本地設(shè)有價值超過50萬美元的備件庫,用于加速售后服務(wù)響應(yīng)速度;同時設(shè)有超過300萬美元的樣機實驗室,支持客戶對設(shè)備進(jìn)行進(jìn)步體驗和深度了解。 “不僅提供超的產(chǎn)品,還提供超的售后服務(wù)”這將是Quantum Design中國區(qū)別于其他科研儀器供應(yīng)商的重要征,也正成為越來越多科學(xué)工作者選擇Quantum Design中國的重要原因。

 

 

 

PPMS,MPMS,低溫磁學(xué),表面成像,樣品制備,生命科學(xué)儀器

Lake Shore的EMPX-H2探針臺增加了一個±0.6 T水平方向磁場的電磁鐵,所有標(biāo)準(zhǔn)的C-V、I-V、微波和電光探測,加上面內(nèi)水平場電磁測量,都可以在EMPX-H2探針臺上進(jìn)行。研究人員可以使用EMPX-H2來測試磁輸運參數(shù),ST-FMR測試等。它是Lake Shore探針臺中用于矢量相關(guān)磁輸運測量的低溫探針臺。

 

為了最大限度地提高樣品磁場,EMPX-H2的探針配置為30°傾角,用于探測直徑達(dá)25mm(1英寸)的晶圓片。360°旋轉(zhuǎn)樣品臺選項允許測量角度相關(guān)和各向異性的磁輸運特性。EMPX-H2在4.5 K至400 K的溫度范圍內(nèi)運行,配置低溫選件可將基本溫度擴展至3.2 K。EMPX-H2采用連續(xù)流制冷,可使用液氦或液氮進(jìn)行冷卻。


主要特征:

 

√  溫度范圍4.5 K~400 K

√  可選低溫3.2 K

√  水平磁場±0.6 T

√  最大1英寸(25.4 mm)樣品

√  無需系統(tǒng)降溫即可施加磁場

√  樣品360°旋轉(zhuǎn)磁各向異性測試


設(shè)備參數(shù):


磁場
磁體類型電磁鐵
磁場方向水平方向(平行于樣品面)
磁場控制霍爾探頭安裝在探針臺內(nèi)用于磁場閉環(huán)控制
磁場大小最大±6 kOe (±0.6 T)
磁場均勻性0.6% 10 mm直徑;2.6% 25 mm直徑
探針針尖移動<5 μm 整個磁場范圍內(nèi)
溫度范圍
最多安裝4個探針臂基礎(chǔ)溫度4.5 K,控制溫度范圍5 K~400 K
安裝PS-LT低溫選件基礎(chǔ)溫度3.2 K,控制溫度范圍3.3 K~400 K
溫度穩(wěn)定性液氦液氮
基礎(chǔ)溫度 (無加熱控制)±20 mK±50 mK
<10 K±50 mK
10 K ~ 100 K±50 mK±100 mK
101 K ~ 250 K±50 mK±100 mK
251 K ~ 400 K±50 mK±100 mK
真空以TPS-FRG分子泵為標(biāo)準(zhǔn)
抽真空時間30 min (<1 × 10-3 Torr)
室溫<5 × 10-4 Torr
基礎(chǔ)溫度<1 × 10-5 Torr
最高溫度<5 × 10-3 Torr
循環(huán)時間
總循環(huán)3 h
抽真空0.5 h
探針臺冷卻1.25 h
探針臺升溫1.25 h
樣品
最大尺寸51 mm(2英寸)
樣品背光接口不可選
樣品旋轉(zhuǎn)360°樣品旋轉(zhuǎn)選件(PS-360-EMPX)
樣品振動<300 nm 標(biāo)準(zhǔn)
探針配置
最大探針數(shù)4
探針臂溫度計用于監(jiān)視探針臂的溫度
冷卻探針支架<20 K(樣品在基礎(chǔ)溫度下)
探針支架連接樣品臺熱沉
探針臂支架連接防輻射屏熱沉
DC/RF探針電絕緣>100GΩ用于低漏電流測量
微波探針頻率范圍從DC到67GHz
光纖探針可用于電光測量
落針范圍所有探針均可在直徑為 25.4 毫米(1 英寸)的圓內(nèi)落針




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