化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)>Nikon NSR 2005i10C 步進(jìn)式光刻機(jī)
Nikon NSR 2005i10C 步進(jìn)式光刻機(jī)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Nikon/日本尼康
- 型號(hào) Nikon NSR 2005i10C
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2025/6/5 10:55:01
- 訪問(wèn)次數(shù) 870
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一、產(chǎn)品概述：
Nikon NSR 2005i10C步進(jìn)式光刻機(jī)是一款高精度的半導(dǎo)體制造設(shè)備，該機(jī)型采用先進(jìn)的步進(jìn)光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于集成電路（IC）、微處理器和存儲(chǔ)器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質(zhì)量和快速的曝光速度，Nikon NSR 2005i10C非常適合大批量生產(chǎn)，同時(shí)其用戶友好的操作界面和高效的自動(dòng)化功能提升了生產(chǎn)效率。這使得Nikon NSR 2005i10C成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要工具，滿足行業(yè)對(duì)高質(zhì)量和高效率的需求。
二、設(shè)備用途/原理：
該設(shè)備通過(guò)高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長(zhǎng)的光線，經(jīng)過(guò)高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，精確地將掩模圖案投影到晶圓上進(jìn)行曝光。曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進(jìn)行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。接著，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過(guò)這一系列步驟，Nikon NSR 2005i10C能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。
三、主要技術(shù)指標(biāo)：
分辨率 | 0.45µm |
N.A. | 0.57 |
曝光光源 | 365nm |
倍率 | 5:1 |
大曝光現(xiàn)場(chǎng) | 20mm*20mm |
對(duì)準(zhǔn)精度 | LSA：100nm |
四、設(shè)備特點(diǎn)
Nikon NSR 2005i10C步進(jìn)式光刻機(jī)
光源波長(zhǎng)365nm
分辨率優(yōu)于0.45µm
主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線
廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等
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