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Nikon NSR 2005i10C 步進式光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

一、產品概述:

 Nikon NSR 2005i10C步進式光刻機是一款高精度的半導體制造設備,該機型采用先進的步進光刻技術,能夠實現(xiàn)高分辨率和高精度的圖案轉移,廣泛應用于集成電路(IC)、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質量和快速的曝光速度,Nikon NSR 2005i10C非常適合大批量生產,同時其用戶友好的操作界面和高效的自動化功能提升了生產效率。這使得Nikon NSR 2005i10C成為現(xiàn)代半導體制造過程中的重要工具,滿足行業(yè)對高質量和高效率的需求。

二、設備用途/原理:

該設備通過高強度光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,經過高分辨率光學系統(tǒng),精確地將掩模圖案投影到晶圓上進行曝光。曝光后,光刻膠的化學性質發(fā)生變化,隨后進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,利用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,Nikon NSR 2005i10C能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉移,滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標:

分辨率

0.45µm

N.A.

0.57

曝光光源

365nm

倍率

5:1

大曝光現(xiàn)場

20mm*20mm

對準精度

LSA:100nm
FIA:110nm

四、設備特點

Nikon NSR 2005i10C步進式光刻機

光源波長365nm

分辨率優(yōu)于0.45µm

主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等




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