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徠卡顯微系統(tǒng)(上海)貿(mào)易有限公司

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>光學儀器及設(shè)備>光學顯微鏡>生物顯微鏡> BX53-P 偏光顯微鏡

BX53-P 偏光顯微鏡

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偏光顯微鏡正置顯微鏡

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每一項發(fā)現(xiàn),都始于對未知的探索。一個多世紀以來,作為奧林巴斯(Olympus),我們在顯微技術(shù)領(lǐng)域不斷突破優(yōu)異光學的邊界,助力全球頂尖科學家、醫(yī)師工、程師觀察得更細致、了解得更透徹、成就得更優(yōu)異。

 

如今,作為 Evident,我們傳承這份積淀,繼續(xù)致力于突破探索的極限。科學創(chuàng)新是我們工作的核心 —— 以光學技術(shù)照亮未知領(lǐng)域。我們的先進成像平臺融合享譽世界的光學技術(shù)與前沿數(shù)字化創(chuàng)新,助您從觀察到洞察,每一步都篤定前行。無論是推動新療法研發(fā)、確保產(chǎn)品完整性,還是探索未知領(lǐng)域,Evident 打造的智能易用的成像工具,都將助您預見未來。

 

歡迎與我們聯(lián)系,探索我們?nèi)绾卧谏茖W研究、數(shù)字病理、材料科學、質(zhì)量控制檢測等領(lǐng)域支持您實現(xiàn)目標。









奧林巴斯工業(yè)內(nèi)窺鏡,工業(yè)顯微鏡,無損檢測產(chǎn)品,XRF和XRD分析儀

產(chǎn)地類別 進口 應用領(lǐng)域 綜合

偏振光觀察的新標準

奧林巴斯 BX53-P 偏光顯微鏡采用 UIS2 無限遠校正光學系統(tǒng)和光學設(shè)計,在偏光應用中具有出色的性能。擴展的兼容補償器系列使 BX53-P 偏光顯微鏡用途廣泛,幾乎可以處理任何領(lǐng)域的觀察和測量應用。

UIS2 光學系統(tǒng)提供出色的可擴展性

UIS2 光學系統(tǒng)充分利用了無限遠校正的優(yōu)勢,有助于防止光學顯微鏡性能下降并消除放大因素,即使將偏振元件(如分析器、色板或補償器)引入光路也是如此。BX53-P 顯微鏡還接受適用于 BX3 系列顯微鏡以及相機和成像系統(tǒng)的中間附件。

BX53-P 偏光顯微鏡

石英閃長巖中的斜長石的帶狀結(jié)構(gòu)。 *比例表示樣品的實際尺寸

BX53-P 偏光顯微鏡

MBBA 的光學結(jié)構(gòu) *尺度表示樣本的實際尺寸


用于錐光和正交觀察的勃氏透鏡

使用錐光觀察附件,在正交觀察和錐光觀察之間切換非常簡單。它可聚焦,以便觀察清晰的后焦平面干涉圖案。伯特蘭透鏡可聚焦,以便清晰地觀察后焦平面干涉圖案。視場光闌使始終獲得清晰的錐光圖像成為可能。


BX53-P 偏光顯微鏡



種類繁多的補償器和波片

有六種不同的補償器可用于測量巖石和礦物薄片中的雙折射。測量延遲水平范圍為 0 至 20λ。為了便于測量并獲得高圖像對比度,
可以使用 Berek 和 Senarmont 補償器,它們會改變整個視野中的延遲水平。

BX53-P 偏光顯微鏡

補償器的測量范圍

補償器測量范圍應用
蒂克貝雷克
(U-CTB)
0–11000 納米
(20λ)
高延遲水平 (R*>3λ) 的測量,(晶體、大分子、纖維等)
貝雷克
(U-CBE)
0–1640 納米
(3λ)
延遲水平的測量(晶體、大分子、生物體等)
Senarmont
補償器
(U-CSE)
0–546 納米
(1λ)
測量延遲水平(晶體、生物體等);
增強圖像對比度(生物體等)
支撐-科勒
補償器1/10λ
(U-CBR1)
0–55 納米
(1/10λ)
低度遲鈍水平的測量(生物體等)
支撐-科勒
補償器1/30λ
(U-CBE2)
0–20 納米
(1/30λ)
圖像對比度測量(生物體等)
石英楔塊
(U-CWE2)
500–2200 納米
(4λ)
延遲水平的近似測量(晶體、大分子等)

*R = 延遲級別
為了獲得更準確的測量結(jié)果,我們建議將補償器(U-CWE2 除外)與干涉濾光片 45-IF546 一起使用

BX53-P 偏光顯微鏡



最小應變光學元件

我們的偏光物鏡將內(nèi)部應變降低。這意味著更高的 EF 值,從而產(chǎn)生出色的圖像對比度。

BX53-P 偏光顯微鏡

堅固而精確的旋轉(zhuǎn)臺

旋轉(zhuǎn)臺上安裝的旋轉(zhuǎn)定心機構(gòu)可使樣品平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)。此外,每 45 度處都有一個止動機構(gòu),可實現(xiàn)精確測量。使用可選的雙機械臺,可以實現(xiàn)謹慎的 XY 移動。



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