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Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 北方華創(chuàng)
  • 型號(hào) Hesper I E430R
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2025/6/5 12:10:59
  • 訪問次數(shù) 618
產(chǎn)品標(biāo)簽

Hesper I E430R外延系統(tǒng)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng),優(yōu)異的氣流場(chǎng)和加熱場(chǎng)設(shè)計(jì)提供優(yōu)良的工藝性能。

2. 設(shè)備用途/原理

Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)優(yōu)異的氣流場(chǎng)和加熱場(chǎng)設(shè)計(jì)提供優(yōu)良的工藝性能,高效傳輸設(shè)計(jì),可提高產(chǎn)能,單、雙、四腔兼容設(shè)計(jì),可滿足不同客戶需求。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 12 英寸,適用材料 適用工藝 埋層外延、選擇性外延 、多晶外延適用域 科研、集成電路。百科知識(shí);?減壓硅外延系統(tǒng)的工作原理主要涉及在氫等離子體原位清潔過的硅襯底表面上,利用減壓(200~250乇)工藝在980~1000℃的溫度下生長(zhǎng)出高質(zhì)量的外延層。?這一過程不僅優(yōu)化了外延層的生長(zhǎng)條件,還顯著提高了外延層的結(jié)晶質(zhì)量。具體來說,通過減壓工藝,可以減小襯底-外延層界面的摻雜濃度過渡區(qū),從常壓時(shí)的1.0μm減小到0.4μm,同時(shí)電阻率和厚度的不均勻性分別小于5%和4%。



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