1. 產(chǎn)品概述

NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。

2. 設備用途/原理

NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕，高性能靜電卡盤，可用于 Si wafer 及玻璃片穩(wěn)定吸附，設備提供多種均勻性調節(jié)手段。本土化服務及定制化軟件配置能力。

3. 設備特點

晶圓尺寸 12英寸，適用材料 鋁、硅、氧化物、鉬、氧化銦錫，適用工藝 鋁線、鋁墊、硅、介質刻蝕、鋁 / 鉬 /ITO 等金屬刻蝕，適用域 新興應用、集成電路。百科：?半導體金屬刻蝕機的原理?主要涉及到濕法刻蝕和干法刻蝕兩種技術。這兩種技術都是半導體制造工藝中非常重要的步驟，用于有選擇地從硅片表面去除不需要的材料，以達到在涂膠的硅片上正確地復制掩模圖形的目的。