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GDE C200系列 高密度 刻蝕機(jī)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

GDE C200系列 高密度刻蝕機(jī),等離子體源和頻率設(shè)計(jì),等離子體密度高,適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。

2. 設(shè)備用途/原理

GDE C200系列 高密度刻蝕機(jī)等離子體源和頻率設(shè)計(jì),等離子體密度高,適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。刻蝕速率、刻蝕均勻性、PM 周期。應(yīng)用域廣泛,包括功率器件、濾波、射頻和光電等域的多種材料刻蝕。工藝種類多樣,包括碳化硅刻蝕、鋁鈧氮刻蝕、PZT 刻蝕、砷化鎵刻蝕、鈮酸鋰刻蝕、氮化硅刻蝕、 磷化銦刻蝕。靈活的系統(tǒng)配置,適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應(yīng)用。適配多種終點(diǎn)檢測方法。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 8 英寸及以下,適用材料 碳化硅、氮化硅、鋁鈧氮、鉬、鋁氮、鋯鈦酸鉛、砷化鎵、磷化銦、鈮酸鋰、介質(zhì)。適用工藝 碳化硅通孔刻蝕、碳化硅柵槽刻蝕、鉬-鋁氮/鋁鈧氮刻蝕、砷化鎵背孔工藝、 光波導(dǎo)工藝等多種材料刻蝕工藝。適用域 新興應(yīng)用、集成電路、化合物半導(dǎo)體、科研。



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