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真空鍍膜設(shè)備

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      江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。公司主營高檔實(shí)驗(yàn)室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù) 力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實(shí)力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實(shí)現(xiàn), 在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場地位。公司生產(chǎn)的高精度高可 靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制 化服務(wù)的供應(yīng)商

      公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、 烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、 去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨(dú)立柜式機(jī)臺及工業(yè)全自動機(jī)臺。 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機(jī)光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技 術(shù)可靠、高性價比、定制化服務(wù)的競爭優(yōu)勢。

 

勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電氣,綜合
  真空鍍膜設(shè)備通常由多個關(guān)鍵部分組成,每個部分都有其特定的功能,協(xié)同工作以實(shí)現(xiàn)高效、均勻的薄膜沉積。以下是主要組成部分及其功能介紹:

 


 
  主要組成部分
 
  真空腔體:
 
  功能:提供一個低壓或高真空環(huán)境,防止鍍膜材料在蒸發(fā)或?yàn)R射過程中與空氣中的雜質(zhì)反應(yīng),保證薄膜的純度和質(zhì)量。
 
  結(jié)構(gòu):通常由高強(qiáng)度、不銹鋼或鋁制成,內(nèi)部設(shè)計考慮了氣流分布和基材放置的便捷性。
 
  真空泵系統(tǒng):
 
  功能:用于將真空腔體內(nèi)的氣體抽出,以達(dá)到所需的真空度。
 
  類型:包括機(jī)械泵(如旋片泵)、渦輪分子泵、擴(kuò)散泵和離子泵等。
 
  蒸發(fā)源或?yàn)R射源:
 
  功能:加熱并蒸發(fā)鍍膜材料,使其在真空中形成蒸氣或等離子體。
 
  類型:包括電阻加熱源、電子束蒸發(fā)源、磁控濺射源和激光蒸發(fā)源等。
 
  基材支架和旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu):
 
  功能:固定基材,并通過旋轉(zhuǎn)或擺動確保鍍膜材料均勻地沉積在基材表面。
 
  結(jié)構(gòu):通常包括可調(diào)節(jié)的夾具和旋轉(zhuǎn)/擺動裝置,以適應(yīng)不同形狀和尺寸的基材。
 
  電源和控制系統(tǒng):
 
  功能:為蒸發(fā)源、濺射源和其他設(shè)備提供電力,并控制整個鍍膜過程的參數(shù),如溫度、真空度和時間。
 
  組件:包括電源供應(yīng)器、控制面板、計算機(jī)控制系統(tǒng)和監(jiān)測傳感器等。
 
  氣體供應(yīng)系統(tǒng)(對于濺射鍍膜設(shè)備):
 
  功能:供應(yīng)惰性氣體(如氬氣)或反應(yīng)氣體(如氧氣、氮?dú)?,以維持等離子體或參與化學(xué)反應(yīng)生成特定薄膜。
 
  組件:包括氣瓶、流量控制器和氣體輸送管道等。
 
  冷卻系統(tǒng):
 
  功能:冷卻蒸發(fā)源、濺射源和真空腔體,防止過熱。
 
  類型:包括水冷系統(tǒng)和風(fēng)冷系統(tǒng)等。
 
  監(jiān)測和檢測系統(tǒng):
 
  功能:實(shí)時監(jiān)測鍍膜過程中的關(guān)鍵參數(shù),如薄膜厚度、沉積速率、真空度和溫度,確保鍍膜質(zhì)量。
 
  類型:包括石英晶體微天平、光學(xué)厚度監(jiān)測儀和殘余氣體分析儀等。
 
  防護(hù)裝置:
 
  功能:確保操作人員和設(shè)備的安全,防止因高溫、高電壓或真空環(huán)境引起的危險。
 
  組件:包括防護(hù)罩、急停按鈕和安全聯(lián)鎖裝置等。
 
  綜上所述
 
  真空鍍膜設(shè)備通過這些組成部分的協(xié)同工作,實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量薄膜的沉積過程。這些設(shè)備在光學(xué)、電子、裝飾和功能性薄膜的制備中起到了至關(guān)重要的作用。


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