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產(chǎn)品展廳

產(chǎn)品求購企業(yè)資訊會(huì)展

發(fā)布詢價(jià)單

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)>ULTRA 激光掩模光刻機(jī)

ULTRA 激光掩模光刻機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

高吞吐量半導(dǎo)體光掩模ULTRA

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

產(chǎn)品概述:

ULTRA半導(dǎo)體光掩模光刻機(jī)是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備,包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 和 MEMS。

操作


用戶界面(軟件)

 

半兼容 GUI

大寫入?yún)^(qū)域

228 x 228 mm2 (可根據(jù)要求提供其他尺寸)

基板尺寸

4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩(可根據(jù)要求提供更大的和其他基材)



 

系統(tǒng)特點(diǎn)


光學(xué)

0.9 NA物鏡
低失真紫外光學(xué)元件
自動(dòng)校準(zhǔn)程序

激光

355nm波長的高功率二管泵浦固體激光器

對(duì)焦系統(tǒng)

實(shí)時(shí)光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦

對(duì)準(zhǔn)

攝像系統(tǒng)
失真補(bǔ)償
全局和逐場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)
邊緣檢測(cè)器

數(shù)據(jù)路徑

 

實(shí)時(shí)壓縮
可擴(kuò)展的硬件概念
輸入格式:所有標(biāo)準(zhǔn)格式,例如 GDSII 和 Jobdeck

空間光調(diào)制器

 

頻率 350 kHz
數(shù)據(jù)速率 2.4 GB/s

自動(dòng)化

 

全自動(dòng)口罩處理,帶兩個(gè)大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協(xié)議



 

系統(tǒng)尺寸

 

系統(tǒng) / 電子機(jī)架

 

寬度 [mm]

2995 / 800

 

深度 [mm]

1652 / 650

 

高度 [mm]

2102 / 1800

 

重量 [kg]

3400 / 180



 

安裝要求


電氣

400 VAC ± 5%,50/60 Hz,16A,3 相

壓縮空氣

7 - 10 bar (不含油或其他殘留物)

 






化工儀器網(wǎng)

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