ULTRA 激光掩模光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品標(biāo)簽

高吞吐量半導(dǎo)體光掩模 ULTRA

在線交流發(fā)送詢價進入商鋪同類產(chǎn)品

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公司介紹 主營產(chǎn)品

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

產(chǎn)品概述：

ULTRA半導(dǎo)體光掩模光刻機是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT）和 MEMS。

操作
用戶界面（軟件）	半兼容 GUI
大寫入?yún)^(qū)域	228 x 228 mm2 （可根據(jù)要求提供其他尺寸）
基板尺寸	4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根據(jù)要求提供更大的和其他基材）

系統(tǒng)特點
光學(xué)	0.9 NA物鏡低失真紫外光學(xué)元件自動校準(zhǔn)程序
激光	355nm波長的高功率二管泵浦固體激光器
對焦系統(tǒng)	實時光學(xué)自動對焦
對準(zhǔn)	攝像系統(tǒng) 失真補償全局和逐場對準(zhǔn) 邊緣檢測器
數(shù)據(jù)路徑	實時壓縮可擴展的硬件概念輸入格式：所有標(biāo)準(zhǔn)格式，例如 GDSII 和 Jobdeck
空間光調(diào)制器	頻率 350 kHz 數(shù)據(jù)速率 2.4 GB/s
自動化	全自動口罩處理，帶兩個大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協(xié)議

系統(tǒng)尺寸	系統(tǒng) / 電子機架
寬度 [mm]	2995 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3400 / 180

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相
壓縮空氣	7 - 10 bar （不含油或其他殘留物）