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TDP-1200/1200A 雙面拋光機

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拋光機

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










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1.  產(chǎn)品概述:

雙面拋光機是一種專門用于對材料兩面進行高精度、高效率拋光處理的機械設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的加工過程中,以提高產(chǎn)品的表面光潔度和精度。雙面拋光機通過上下兩個拋光盤的旋轉(zhuǎn),利用摩擦力和磨料的作用,去除工件表面的毛刺、氧化層等雜質(zhì),從而達到拋光的目的。

2 設(shè)備用途/原理:

雙面拋光機的主要用途包括:

  1. 半導(dǎo)體硅片加工:在半導(dǎo)體行業(yè)中,雙面拋光機被用于硅片的雙面拋光,以提高硅片的表面平整度和光潔度,滿足后續(xù)工藝的需求。

  2. 光學(xué)玻璃加工:在光學(xué)領(lǐng)域,雙面拋光機能夠確保光學(xué)玻璃的兩面都達到光學(xué)精度,滿足精密光學(xué)儀器的要求。

  3. 金屬材料加工:對于金屬材料,雙面拋光機能夠去除表面的氧化層和毛刺,提高金屬件的表面質(zhì)量和美觀度。

  4. 藍寶石加工:在藍寶石等硬脆材料的加工中,雙面拋光機能夠?qū)崿F(xiàn)高效、高精度的拋光,滿足LED、藍寶石襯底等領(lǐng)域的需求。

3. 設(shè)備特點

雙面拋光機具有以下特點:

  1. 高精度:雙面拋光機能夠?qū)示忍岣叨噙_20倍,這對于精密加工領(lǐng)域具有重要意義。它能夠確保工件的兩面都達到平整度和光潔度。

  2. 高效率:采用雙盤對磨的方式,能夠同時加工工件的兩面,大大提高了加工效率。此外,設(shè)備還具有自動進給功能,可根據(jù)加工進度自動調(diào)整拋光壓力和速度。

  3. 多材料適用:雙面拋光機適用于多種硬脆材料的拋光,包括半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料等,具有廣泛的加工適應(yīng)性。

  4. 多工藝兼容:設(shè)備支持粗拋、中拋、精拋等多種拋光工藝,能夠滿足不同加工需求。同時,采用分段加壓控制,能夠根據(jù)不同工藝要求準確調(diào)整拋光壓力和速度。



綜上所述,雙面拋光機是一種高精度、高效率、多材料適用、多工藝兼容的拋光加工設(shè)備,在半導(dǎo)體、光學(xué)、金屬等多個領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。



4 設(shè)備參數(shù)


規(guī)格/參數(shù)

TDP-1200

TDP-1200A

制程工藝

雙面機械拋光

雙面化學(xué)機械拋光

加壓方式

氣囊

氣囊

拋光壓力

Max1000 kgf

Max1000 kgf

上下拋光盤尺寸

OD1100 mm

OD1100 mm

游星輪規(guī)格

14B*6

14B*6

上下拋光盤轉(zhuǎn)速

0-70 RPM

0-70 RPM

內(nèi)環(huán)轉(zhuǎn)速

0-115 RPM

0-115 RPM

外環(huán)轉(zhuǎn)速

0-40 RPM

0-40 RPM

外環(huán)升降








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