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FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業(yè)能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業(yè)專用儀器/其它半導體行業(yè)儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經(jīng)銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數(shù)字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準醫(yī)學顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業(yè)專用儀器/其它半導體行業(yè)儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂中結識新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產(chǎn)品配套、安裝調試、應用指導、維護保養(yǎng)在內的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農(nóng)業(yè)大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產(chǎn)品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業(yè)技術經(jīng)驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過硬的技術,優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專業(yè)、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












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價格區(qū)間 面議 應用領域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加,其製造設備也變得更大,需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設備,提供非晶矽(a-Si),氧化矽(SiOx),氮氧化矽(SiON),氮化矽(SiNx)和多層膜沉積。

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

FPD-PECVDField Plasma Discharge Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一種電漿輔助化學氣相沉積技術,它利用電場產(chǎn)生的等離子體來促進化學氣相沉積過程。該技術在薄膜材料的制備中具有重要作用,特別是在大面積平板顯示(Flat Panel DisplayFPD)制造領域。

FPD-PECVD技術通過在反應室內施加電場,激發(fā)氣體分子產(chǎn)生等離子體。等離子體中的高能粒子與化學前驅體分子發(fā)生反應,形成沉積在基板上的薄膜。與傳統(tǒng)的PECVD技術相比,FPD-PECVD能夠更有效地控制等離子體的分布和能量,從而提高薄膜的質量和均勻性。

該技術廣泛應用于液晶顯示器(LCD)和有機發(fā)光二極管(OLED)面板的生產(chǎn)中,用于沉積絕緣層、導電層、保護層等關鍵薄膜。FPD-PECVD技術的優(yōu)化和應用對于提升顯示面板的性能和生產(chǎn)效率具有重要意義。

應用領域
  • 非晶矽前驅物(a-Si)。

  • 氮化矽 (SiNx)。

  • 氧化矽,矽烷基(SiOx)。

  • 氧化矽,TEOS (SiOx)。


配置和優(yōu)點選件
  • 客製化基板尺寸為550 x 650 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 每個製程腔內最多可加裝7組氣體管線。

  • 遠程電漿進行腔體清潔。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,可將基板加熱到380°C。

  • Cassette傳送站。

  • TEOS沉積製程。

  • OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。






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