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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>NEXUS IBD-LDD 離子束沉積設備

NEXUS IBD-LDD 離子束沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1.產品概述:

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設備,VEECCO憑借25年來在離子束產品域建立導地位,實現(xiàn)當無缺陷的EUV掩??瞻?/span>。

2.產品工藝:

光掩模制造需要高水平的顆粒控制,同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來,Veeco已成功服務于光掩模市場,多年的學習造就了當先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當EUV掩模坯料上的鉬(Mo)和硅(Si)多層沉積和釕(Ru)封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

3.產品優(yōu)勢:

經過生產驗證的平臺

低的缺陷密度

優(yōu)異的均勻性和可重復性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中,集成到集群工具中




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