上海微蕓半導體科技有限公司生產的電感耦合等離子體干法刻蝕機（ICP）是一款針對工藝節(jié)點與生產線各種關鍵應用的大規(guī)模量產型設備，其性能亦可在各大高校及科研機構展示其科研屬性。

設備8英寸向下兼容，適用于各種刻蝕需求，具備優(yōu)異的刻蝕均勻性和快速刻蝕速率，確保了高效、精確的刻蝕工藝結果。同時，高選擇比和高各向異性使刻蝕過程更為精準，減少損傷。專業(yè)的機械設計與優(yōu)化的操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定、重復性、均勻性佳。此外，高斷面輪廓可控性保證了刻蝕表面的平整光滑。該系統(tǒng)可以根據(jù)客戶要求選擇氣體種類進行配置。