在微電子、集成電路等制造領域，靈活性、高效率是推動行業(yè)發(fā)展的重要動力。托托科技推出的高速版無掩模光刻機，憑借革命性的技術革新，為科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，以及電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等眾多領域帶來了全新的解決方案。

托托科技無掩模光刻機融合了激光直寫光刻技術與 DMD 無掩模光刻技術。激光直寫技術通過激光束直接在材料表面進行高精度加工，而 DMD 無掩模技術則通過數(shù)字微鏡陣列投影光束進行圖案化加工，特別適用于大面積光刻，為不同場景下的加工需求提供了多樣化的選擇。

DMD 無掩模光刻技術是托托科技無掩模光刻機的核心技術之一。其基本原理是利用數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，通過投影系統(tǒng)在材料表面快速形成圖像或光刻圖案。這些微鏡根據(jù)電信號的控制會精確調節(jié)反射角度，將激光或光源投射到特定位置。系統(tǒng)由光源模組、勻光模組、DMD 模組、投影模組、運動臺模組和軟件等幾大部分構成，這些模組高效、精準地協(xié)同工作，實現(xiàn)了高分辨率圖案的快速無掩模光刻。工作流程簡單高效，上位機發(fā)送圖形數(shù)據(jù)到 DMD 模組，DMD 顯示對應的圖形，經(jīng)由 DMD 反射的光攜帶著圖形信息，經(jīng)過一系列光學元件后照射到基片上，實現(xiàn)了圖形的轉移。高精度運動平臺的協(xié)同工作，確保不同曝光區(qū)域的精準拼接，最終實現(xiàn)大型、復雜圖案的動態(tài)曝光。

托托科技無掩模光刻機擁有多項核心功能，與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比，無掩模光刻機更加靈活便捷，省去了制版的時間和金錢成本，幫助用戶快速驗證想法，大大縮短了研發(fā)周期。

在加工精度方面，托托科技無掩模光刻機表現(xiàn)出色。加工精度 1μm 可以滿足大多數(shù)加工需求，而針對精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達 400 nm 的產(chǎn)品供您選擇，能夠滿足各種高精度加工場景。

速度是另一個關鍵指標。托托科技無掩模光刻機的速度高達 1200 mm2/min，對于大尺寸樣品的加工來說，效率變得尤為重要，我們?yōu)槟峁┝烁咚俑呔鹊脑O備來滿足您的需求，顯著提高了生產(chǎn)效率。

加工幅面方面，如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達 4 m2 的產(chǎn)品來滿足您的需求，能夠應對各種大規(guī)模加工任務。

此外，托托科技無掩模光刻機還具備灰度光刻能力，可達 4096 階。4096 階的灰度能力，能夠精準地在光刻材料上構建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結構或圖案，為微納制造領域帶來工藝精度與豐富的設計可能性，為科研創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)提供了更廣闊的空間。

托托科技高速版無掩模光刻機以其豐富的功能，成為微納制造領域的理想之選。無論是科研機構還是生產(chǎn)企業(yè)，都能從中受益，開啟微納制造的新篇章。