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CY-PECVD-240T-SS 半導(dǎo)體CVD設(shè)備
參考價 | ¥ 60000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CY-PECVD-240T-SS
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/8/19 16:29:16
- 訪問次數(shù) 166
等離子增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備化學(xué)氣相沉積設(shè)備增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備半導(dǎo)體CVD設(shè)備等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備
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磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,
半導(dǎo)體CVD設(shè)備采用等離子體增強型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率快,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
主要功能及特點:
PECVD設(shè)備利用平板電容式輝光放電原理,將通入沉積室的工藝氣體解離并產(chǎn)生等離子體,被解離的基團在等離子體中重新發(fā)生化學(xué)反應(yīng),由于等離子體存在,促進氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離,促進反應(yīng)活性基團的生成,從而降低沉積溫度,在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜??筛鶕?jù)工藝調(diào)節(jié)等離子體的密度和能量,控制薄膜的生長速率和微結(jié)構(gòu)。
產(chǎn)品參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 桌面式4英寸平板等離子體增強化學(xué)氣相沉積PECVD | |
產(chǎn)品型號 | CY-PECVD-240T-SS | |
供電電源 | AC220V 50Hz | |
射頻電源 | 信號頻率 | 13.56MHz |
功率輸出范圍 | 0~500W (還可選擇150W, 300W, 1000W等) | |
工作腔體 | 加熱溫度 | RT-500℃(還可選擇600℃,800℃,1000℃等) |
樣品臺尺寸 | Φ100mm(兼容4英寸及以下樣品) | |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm 可調(diào) | |
腔體材質(zhì) | 不銹鋼 | |
觀察窗 | Φ60mm, 帶擋板 | |
供氣系統(tǒng) | 通道數(shù) | 3 (可根據(jù)需要選擇其他通道數(shù),其他氣體種類,其他測量范圍) |
測量單位 | 質(zhì)量流量計 | |
測量范圍 | A 通道: 0~200SCCM for O2 | |
B通道: 0~200SCCM for N2 | ||
C通道: 0~200SCCM for Ar | ||
真空系統(tǒng) | 前級泵抽速 | 1.1L/s |
分子泵抽速 | 60L/s | |
真空測量 | 復(fù)合真空計 | |
真空度 | 5.0*10-3Pa | |
水冷機 | 水流速 | 10L/min |
冷卻功率 | 50W/℃ |