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ETCU-200W 半導(dǎo)體用高精度冷水機(jī)丨助力芯片良率提升

參考價(jià) 157366
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
  • 品牌 冠亞恒溫
  • 型號(hào) ETCU-200W
  • 產(chǎn)地 江蘇省無(wú)錫市錫山區(qū)翰林路55號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/3/20 11:29:25
  • 訪問(wèn)次數(shù) 483

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無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司致力于制冷設(shè)備、超低溫冷凍機(jī)、制冷加熱控溫系統(tǒng)、加熱循環(huán)系統(tǒng)、防爆電氣設(shè)備、自動(dòng)化集成分散控制系統(tǒng)、實(shí)驗(yàn)儀器裝置、工業(yè)冷凍室的開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)和貿(mào)易的科技實(shí)體。擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開(kāi)發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗(yàn)的高素質(zhì)專(zhuān)業(yè)設(shè)計(jì)人員的研發(fā)隊(duì)伍。


我們的使命:

聚焦解決客戶寬溫制冷、加熱控溫難題和降低制冷、加熱系統(tǒng)能耗;

提供有競(jìng)爭(zhēng)力的系統(tǒng)解決方案和服務(wù),持續(xù)為客戶創(chuàng)造較大化價(jià)值;




制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應(yīng)釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機(jī)、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、低溫冷凍機(jī)、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備

產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬(wàn)-50萬(wàn)
冷卻方式 水冷式 儀器種類(lèi) 一體式
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子/電池,航空航天,汽車(chē)及零部件,電氣

半導(dǎo)體用高精度冷水機(jī)丨助力芯片良率提升

半導(dǎo)體用高精度冷水機(jī)丨助力芯片良率提升


在半導(dǎo)體制造的復(fù)雜流程中,刻蝕工藝是通過(guò)使用化學(xué)或物理方法,有選擇性地去除晶圓表面的材料,以形成電路圖案。而在這一工藝過(guò)程中,刻蝕工藝?yán)鋮schiller保障刻蝕工藝的順利進(jìn)行。

刻蝕工藝對(duì)環(huán)境溫度有著高要求。溫度的波動(dòng)會(huì)影響刻蝕速率和刻蝕的均勻性。如果溫度過(guò)高,刻蝕劑的化學(xué)反應(yīng)增強(qiáng),可能導(dǎo)致刻蝕速率過(guò)快,難以控制刻蝕和圖案的精度;反之,溫度過(guò)低則會(huì)使刻蝕速率變慢,可能造成刻蝕不的情況。此外,溫度不均勻還會(huì)導(dǎo)致晶圓不同區(qū)域的刻蝕程度不一致。

刻蝕工藝?yán)鋮schiller是如何滿足刻蝕工藝對(duì)溫度的嚴(yán)苛要求呢?其核心技術(shù)在于溫度調(diào)節(jié)和穩(wěn)定的控溫能力。刻蝕工藝?yán)鋮schiller的制冷循環(huán)系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)溫度控制的基礎(chǔ)。壓縮機(jī)將制冷劑壓縮升溫,高溫高壓的制冷劑氣體進(jìn)入冷凝器,在這里釋放熱量并冷凝成液體。隨后,液態(tài)制冷劑經(jīng)過(guò)節(jié)流裝置降壓降溫,進(jìn)入蒸發(fā)器。在蒸發(fā)器中,制冷劑吸收周?chē)鸁崃?,?shí)現(xiàn)制冷效果,從而降低刻蝕設(shè)備及周邊環(huán)境的溫度。

刻蝕工藝?yán)鋮schiller的循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計(jì),并配備磁力驅(qū)動(dòng)泵,這種設(shè)計(jì)避免了冷卻液的泄漏和外界雜質(zhì)的混入,確保了系統(tǒng)的穩(wěn)定和可靠。同時(shí),其控制系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的溫度控制,可以為刻蝕工藝提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境。

不同類(lèi)型的刻蝕工藝?yán)鋮schiller適用于不同的刻蝕工藝場(chǎng)景。比如氣體降溫控溫系列的 Chiller,適用于對(duì)通入刻蝕設(shè)備的氣體進(jìn)行降溫處理,確保氣體在合適的溫度下參與刻蝕反應(yīng);直冷型 Chiller 則可以將制冷劑直接輸出到目標(biāo)控制元件進(jìn)行換熱,在一些對(duì)換熱效率要求高的刻蝕工藝中發(fā)揮作用;而快速溫變控溫卡盤(pán)能夠?qū)崿F(xiàn)快速的溫度變化和控制,滿足某些特殊刻蝕工藝對(duì)溫度動(dòng)態(tài)響應(yīng)的需求。

在實(shí)際的半導(dǎo)體制造工廠中,刻蝕工藝?yán)鋮schiller與刻蝕設(shè)備緊密配合,成為保障產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷向發(fā)展,刻蝕工藝?yán)鋮schiller將不斷提升控溫精度、響應(yīng)速度,繼續(xù)為刻蝕工藝以及整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供堅(jiān)實(shí)的支持。


半導(dǎo)體用高精度冷水機(jī)丨助力芯片良率提升






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