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ETCU-200W 半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升

參考價 157366
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
  • 品牌 冠亞恒溫
  • 型號 ETCU-200W
  • 產(chǎn)地 江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/3/20 11:29:25
  • 訪問次數(shù) 484

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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司致力于制冷設備、超低溫冷凍機、制冷加熱控溫系統(tǒng)、加熱循環(huán)系統(tǒng)、防爆電氣設備、自動化集成分散控制系統(tǒng)、實驗儀器裝置、工業(yè)冷凍室的開發(fā)、生產(chǎn)和貿(mào)易的科技實體。擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗的高素質(zhì)專業(yè)設計人員的研發(fā)隊伍。


我們的使命:

聚焦解決客戶寬溫制冷、加熱控溫難題和降低制冷、加熱系統(tǒng)能耗;

提供有競爭力的系統(tǒng)解決方案和服務,持續(xù)為客戶創(chuàng)造較大化價值;




制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、低溫冷凍機、加熱制冷恒溫槽等設備

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-50萬
冷卻方式 水冷式 儀器種類 一體式
應用領域 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣

半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升

半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升


在半導體制造的復雜流程中,刻蝕工藝是通過使用化學或物理方法,有選擇性地去除晶圓表面的材料,以形成電路圖案。而在這一工藝過程中,刻蝕工藝冷卻chiller保障刻蝕工藝的順利進行。

刻蝕工藝對環(huán)境溫度有著高要求。溫度的波動會影響刻蝕速率和刻蝕的均勻性。如果溫度過高,刻蝕劑的化學反應增強,可能導致刻蝕速率過快,難以控制刻蝕和圖案的精度;反之,溫度過低則會使刻蝕速率變慢,可能造成刻蝕不的情況。此外,溫度不均勻還會導致晶圓不同區(qū)域的刻蝕程度不一致。

刻蝕工藝冷卻chiller是如何滿足刻蝕工藝對溫度的嚴苛要求呢?其核心技術(shù)在于溫度調(diào)節(jié)和穩(wěn)定的控溫能力??涛g工藝冷卻chiller的制冷循環(huán)系統(tǒng)是實現(xiàn)溫度控制的基礎。壓縮機將制冷劑壓縮升溫,高溫高壓的制冷劑氣體進入冷凝器,在這里釋放熱量并冷凝成液體。隨后,液態(tài)制冷劑經(jīng)過節(jié)流裝置降壓降溫,進入蒸發(fā)器。在蒸發(fā)器中,制冷劑吸收周圍熱量,實現(xiàn)制冷效果,從而降低刻蝕設備及周邊環(huán)境的溫度。

刻蝕工藝冷卻chiller的循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設計,并配備磁力驅(qū)動泵,這種設計避免了冷卻液的泄漏和外界雜質(zhì)的混入,確保了系統(tǒng)的穩(wěn)定和可靠。同時,其控制系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的溫度控制,可以為刻蝕工藝提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境。

不同類型的刻蝕工藝冷卻chiller適用于不同的刻蝕工藝場景。比如氣體降溫控溫系列的 Chiller,適用于對通入刻蝕設備的氣體進行降溫處理,確保氣體在合適的溫度下參與刻蝕反應;直冷型 Chiller 則可以將制冷劑直接輸出到目標控制元件進行換熱,在一些對換熱效率要求高的刻蝕工藝中發(fā)揮作用;而快速溫變控溫卡盤能夠?qū)崿F(xiàn)快速的溫度變化和控制,滿足某些特殊刻蝕工藝對溫度動態(tài)響應的需求。

在實際的半導體制造工廠中,刻蝕工藝冷卻chiller與刻蝕設備緊密配合,成為保障產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。隨著半導體技術(shù)不斷向發(fā)展,刻蝕工藝冷卻chiller將不斷提升控溫精度、響應速度,繼續(xù)為刻蝕工藝以及整個半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供堅實的支持。


半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升






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