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硅片厚度TTV測試儀

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公司成立于2021年,是一家注冊在蘇州、具備技術(shù)的非接觸式半導體檢測分析設(shè)備制造商。公司集研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售于一體,主要攻克國外壟斷技術(shù),替代進口產(chǎn)品,使半導體材料測試設(shè)備國產(chǎn)化。

主要產(chǎn)品:非接觸式無損方塊電阻測試儀、晶圓方阻測試儀、方阻測試儀、硅片電阻率測試儀、渦流法高低電阻率分析儀、晶錠電阻率分析儀、渦流法電阻率探頭和PN探頭測試儀、遷移率(霍爾)測試儀、少子壽命測試儀,晶圓、硅片厚度測試儀、表面光電壓儀JPV\SPV、汞CV、ECV。碳化硅、硅片、氮化鎵、襯底和外延廠商提供測試和解決方案。

憑借*的技術(shù)和豐富的產(chǎn)品設(shè)計經(jīng)驗申請各項知識產(chǎn)權(quán)20余項,已發(fā)展成為中國大陸少數(shù)具有一定國際競爭力的半導體專用設(shè)備提供商,產(chǎn)品得到眾多國內(nèi)外主流半導體廠商的認可,并取得良好的市場口碑。





晶圓電阻率測試儀,硅片電阻率測試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率測試儀,少子壽命測試儀

價格區(qū)間 面議 應用領(lǐng)域 電子/電池,航空航天,電氣,綜合

硅片厚度測試的方法主要包括非接觸式光學測量技術(shù),如反射率法、干涉法和激光掃描共聚焦顯微鏡等??1。其中,反射率法是通過測量不同角度下光線的反射率變化來計算硅片厚度,而干涉法則是利用光的干涉現(xiàn)象來測量厚度,這種方法可以測量到非常薄的硅片?1

測試原理

  1. ?反射率法?:通過測量不同角度下光線的反射率變化來計算硅片厚度。

  2. ?干涉法?:利用光的干涉現(xiàn)象來測量厚度,適用于非常薄的硅片。

  3. ?激光掃描共聚焦顯微鏡?:利用激光掃描和共聚焦技術(shù)進行高精度的三維成像和測量。

測試標準

硅片厚度的測量通常參考國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)頒布的相關(guān)標準,如SEMIM1、SEMIM59等?1。

測試設(shè)備

硅片厚度測量儀是一種用于測量硅片厚度的設(shè)備,操作步驟包括將待測硅片放置在測量儀上,開啟儀器并調(diào)整參數(shù)進行測量并記錄數(shù)據(jù)。維護注意事項包括定期清潔測量儀、避免碰撞或摔落,并按照說明書進行日常維護?





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