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MKW4200 光發(fā)射電子顯微鏡/PEEM

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時(shí)上海麥科威在快速擴(kuò)展海外市場(chǎng),并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場(chǎng)。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī);  - 探針臺(tái),低溫探針臺(tái),微探針臺(tái);  - 金剛石劃片機(jī); - 球焊機(jī),鍥焊機(jī);  - 磁控濺射鍍膜機(jī);  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機(jī)-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓印;-等離子清洗機(jī)、去膠機(jī);-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機(jī)、無(wú)掩膜光刻機(jī); - 勻膠機(jī); - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽(yáng)能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機(jī)-離子注入-劃片機(jī)、裂片機(jī)光刻機(jī)(針尖/電子束光刻機(jī)EBL,紫外光刻機(jī),激光直寫(xiě)光刻機(jī)),鍍膜機(jī)(磁控濺射機(jī),電子束蒸發(fā)機(jī),化學(xué)沉積機(jī),微波等離子沉積機(jī),原子層沉積機(jī)  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門(mén)海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽(yáng)能,廣東萬(wàn)和集團(tuán),西安西測(cè)股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來(lái)汽車, 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽(yáng)能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機(jī)電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團(tuán),固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國(guó)家試驗(yàn)室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國(guó)航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機(jī),光刻機(jī)

應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

光發(fā)射電子顯微鏡/PEEM介紹:

LEEM是廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器,能集原位觀測(cè)、超快及光電子成像于一體,即我們所稱的“長(zhǎng)眼睛的超級(jí)XPS”,能對(duì)薄膜以及二維材料、鋰離子電池、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池材料等的表面電子行為進(jìn)行實(shí)時(shí)激發(fā)、圖像采集及定量分析,此外LEEM還可定量地解析各種薄膜材料在生長(zhǎng)過(guò)程中所處的能帶狀態(tài),因而可以對(duì)電子材料制備、使用和失效過(guò)程進(jìn)行有效的表征,從而揭示電子材料的化學(xué)成分、能帶及其價(jià)態(tài)與性能的作用機(jī)理。LEEM與成像功能和離子濺射刻蝕相結(jié)合,可以用于固體表面元素成分及價(jià)態(tài)的面分布和深度剖析;與離子蒸鍍或其他分子束外延技術(shù)相結(jié)合,可以進(jìn)行原位樣品的制備及分析工作。當(dāng)電子到樣品的著陸能量較低時(shí),會(huì)在樣品表面發(fā)生衍射。對(duì)衍射斑點(diǎn)進(jìn)行成像,可以獲得LEED圖像,得知表面晶向結(jié)構(gòu)。同時(shí)可以與光闌配合,調(diào)控電子束在表面的位置與大小,進(jìn)行微區(qū)LEED表征,這樣就不僅可以對(duì)樣品表面進(jìn)行實(shí)空間成像,還可以得知樣品各微觀位置的晶向結(jié)構(gòu)。這也是PEEM/LEEM系統(tǒng)一大優(yōu)勢(shì)。因此,LEEM在電子薄膜材料、半導(dǎo)體材料、納米材料、能源、催化分析等方面具有不可替代的作用。

光發(fā)射電子顯微鏡/PEEM配置清單:

序號(hào)

具體配置

數(shù)量

1

超高真空分析腔

1套

2

冷場(chǎng)發(fā)射電子槍

1套

3

電子光學(xué)透鏡系統(tǒng)

1套

4

超高真空泵組

1套

5

高精度五軸全自動(dòng)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)

1套

6

樣品傳輸和快速進(jìn)樣腔

1套

7

減震平臺(tái)

1套

8

操作電腦(預(yù)裝操作系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集軟件,2個(gè)24寸顯示屏)

1套

9

紫外光源

1套

10

帶相差矯正功能

1套

技術(shù)參數(shù):

1、主分析腔真空≤2×10-10mbar,主分析腔和快速進(jìn)樣腔之間配有過(guò)渡腔,留有擴(kuò)展接口,可用于后期與其它設(shè)備互聯(lián)

2、高精度5軸馬達(dá)全自動(dòng)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái),XYZ和2個(gè)Tilt方向全部馬達(dá)驅(qū)動(dòng)

3、高通量放電汞燈一個(gè),用于PEEM成像

4、高溫成像樣品溫度可達(dá)1500K

5、磁偏轉(zhuǎn)棱鏡采用90°偏轉(zhuǎn),易于光路整體校正

6、冷場(chǎng)發(fā)射電子槍,電子束斑直徑200nm- 40μm,能量分布FWHM≤0.3eV;空間分辨率<5nm(LEEM模式),<10nm(PEEM模式);像差校正:LEEM空間分辨率優(yōu)于3nm

7、能量分辨率<250meV

8、樣品位置穩(wěn)定性<5nm,再現(xiàn)性<500nm

9、軟件能操控能量狹縫位置,可快速實(shí)現(xiàn)能量過(guò)濾成像




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