BOE清洗設(shè)備是一種用于半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃等領(lǐng)域的高精度表面處理設(shè)備，通過化學(xué)或物理方法去除晶圓、硅片等基材表面的污染物（如顆粒、金屬殘留、氧化物等），確保后續(xù)工藝的良率和產(chǎn)品性能。以下是其核心特點(diǎn)與技術(shù)總結(jié)：

一、核心功能與工藝原理

主要用途：

用于清洗半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、觸摸屏基材等，去除表面附著的有機(jī)污染物、無機(jī)顆粒、金屬離子及氧化層。

廣泛應(yīng)用于光伏、液晶顯示（LCD）、微電子制造等領(lǐng)域，是PVD、CVD、光刻等工藝的前道關(guān)鍵步驟。

技術(shù)原理：

化學(xué)清洗：通過氟化物溶液（如DHF）或酸性/堿性配方（如SC-1、SC-2）與污染物發(fā)生反應(yīng)，生成可溶物質(zhì)后沖洗干凈。例如，HF溶液用于去除硅表面氧化層，SC-1溶液（H?O?+NH?OH）去除有機(jī)物和顆粒。

物理輔助：結(jié)合超聲波、兆聲波或刷洗機(jī)械力，增強(qiáng)微小顆粒（＜0.1μm）的剝離效果。超聲波通過空化效應(yīng)打破污染物附著力，而軟質(zhì)刷輪（如聚酯材料）則用于去除頑固殘留。

二、設(shè)備結(jié)構(gòu)與關(guān)鍵組件

槽體系統(tǒng)：

采用耐腐蝕材料（如PFA、PTFE），包含酸槽、水槽、干燥槽等模塊化設(shè)計(jì)。酸槽用于化學(xué)蝕刻，水槽用于純水沖洗，干燥槽通過IPA蒸干或Marangoni效應(yīng)實(shí)現(xiàn)無水痕干燥。

噴淋臂或浸沒式清洗方式，搭配流體動(dòng)力學(xué)優(yōu)化，確保晶圓表面均勻沖刷。

控制與監(jiān)測(cè)單元：

參數(shù)控制：精確調(diào)節(jié)溫度（±0.5℃）、化學(xué)濃度（如折射計(jì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)）、流量（2-10L/min）和清洗時(shí)間（30-120秒），通過PLC或工業(yè)計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化調(diào)控。

在線監(jiān)測(cè)：集成激光粒子計(jì)數(shù)器、pH計(jì)等傳感器，實(shí)時(shí)檢測(cè)顆粒污染水平和化學(xué)液狀態(tài)，反饋至控制系統(tǒng)以優(yōu)化參數(shù)。

機(jī)械清洗模塊：

旋轉(zhuǎn)晶圓（300mm晶圓轉(zhuǎn)速100-300rpm）配合軟質(zhì)刷輪，壓力控制在50-200g/cm2，避免劃傷表面。

兆聲波系統(tǒng)（1-3MHz高頻）增強(qiáng)微小顆粒去除能力，適用于制程（如28nm以下）的嚴(yán)格清潔需求。

三、技術(shù)優(yōu)勢(shì)與應(yīng)用場(chǎng)景

高效性與均勻性：

多槽串聯(lián)設(shè)計(jì)（如“酸洗-漂洗-干燥”三槽聯(lián)動(dòng)）提升處理效率，單片清洗周期可縮短至幾分鐘。

流體仿真（CFD）優(yōu)化噴淋路徑，確保1500×1850mm大尺寸玻璃基板（如G6 AMOLED）的邊角清潔。

定制化能力：

適應(yīng)不同基材（硅片、石英、藍(lán)寶石）和工藝需求，例如光伏硅片制絨（鏈?zhǔn)絾蚊嫒SG清洗機(jī)）、RCA繞鍍清洗（LPCVD后處理）等。

支持手動(dòng)到全自動(dòng)配置，滿足實(shí)驗(yàn)室研發(fā)或大規(guī)模生產(chǎn)需求。

環(huán)保與成本優(yōu)化：

化學(xué)液回收系統(tǒng)（如離子交換樹脂再生技術(shù)）減少DI水和化學(xué)品消耗，降低運(yùn)行成本。

低能耗干燥技術(shù)（如Marangoni干燥）替代傳統(tǒng)熱風(fēng)烘干，節(jié)省能源并減少碳足跡。

四、行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：

用于去除光刻膠殘留、蝕刻后氧化層及金屬污染，保障芯片良率。例如，廈門天馬顯示科技采購(gòu)的BOE清洗機(jī)專門用于G6 AMOLED基板氧化物去除，設(shè)備長(zhǎng)度≤22400mm，適配1500×1850mm玻璃尺寸。

光伏領(lǐng)域：

鏈?zhǔn)絾蚊嫒SG清洗機(jī)用于太陽(yáng)能電池片磷硅玻璃（PSG）或硼硅玻璃（BSG）的去除，提升電池片光電轉(zhuǎn)換效率。

光學(xué)玻璃加工：

觸摸屏玻璃基材清洗需防潛傷設(shè)計(jì)，采用超聲波定時(shí)控制與DI水多級(jí)沖洗，避免劃痕和水印殘留。

BOE清洗設(shè)備是現(xiàn)代制造的核心工藝設(shè)備，其性能直接影響產(chǎn)品良率和可靠性。未來發(fā)展方向?qū)⒕劢怪悄芑?、環(huán)保化及原子級(jí)清潔技術(shù)，以匹配更小制程（如3nm以下）和新興材料（如鈣鈦礦、碳化硅）的需求。