濕法清洗與刻蝕系統(tǒng)是專為半導體、光伏、電子等高精度制造領域設計的工藝設備，集成了高效清洗與精準刻蝕功能。

該系統(tǒng)的濕法清洗部分，采用多種清洗技術。通過優(yōu)化清洗液配方，能針對不同污染物，如油污、塵埃、氧化物等實現(xiàn)高效去除。清洗過程中，結(jié)合超聲波空化作用、流體力學噴射與循環(huán)過濾系統(tǒng)，確保清洗均勻，不損傷工件表面。其溫度、濃度等參數(shù)可精確調(diào)控，適應各種復雜材質(zhì)與工藝要求。

刻蝕系統(tǒng)則具備的精度與選擇性。運用特制的刻蝕液，依據(jù)化學原理對特定材料進行可控腐蝕。系統(tǒng)能精準控制刻蝕速率，無論是淺層刻蝕以調(diào)整表面特性，還是深度刻蝕構建精細結(jié)構，都能穩(wěn)定實現(xiàn)。同時，配備的終點檢測技術，實時監(jiān)測刻蝕進程，保證刻蝕效果的一致性與準確性。

整體設備設計緊湊，操作界面友好，便于人機交互與工藝參數(shù)設定。具有完善的安全防護機制，防止化學泄漏與人員傷害。廣泛應用于芯片制造、半導體器件加工、太陽能電池片生產(chǎn)等環(huán)節(jié)，為提升產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率提供有力保障，助力制造業(yè)的精密加工需求。