化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備> CS310M電化學(xué)工作站
CS310M電化學(xué)工作站
- 公司名稱 北京中教金源科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/5/13 12:51:33
- 訪問次數(shù) 254
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中教金源，與全國各高校研究所建立的長久的合作關(guān)系。2010年以來，采用中教金源儀器，發(fā)表的SCI文章千余篇，尤其在客戶化定制及系統(tǒng)搭建上滿足了不同的實(shí)驗(yàn)需求。部分客戶：*化學(xué)研究所、國家納米中心、北京大學(xué)、上海交通大大學(xué)、南京大學(xué)、中國石油大學(xué)、重慶大學(xué)、華南理工大學(xué)、中山大學(xué)、武漢大學(xué)、蘭州大學(xué)、*新疆理化所、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、黑龍江大學(xué)等千余家單位、研究院所。
產(chǎn)品主要應(yīng)用：實(shí)驗(yàn)室科學(xué)研究、化學(xué)研究、工業(yè)催化、光電化學(xué)、光電測試分析、生物研究、催化表征、光化學(xué)及光催化、光降解污染物、光降解有害物、光聚合、光電轉(zhuǎn)換、熒光分析、太陽能電池研究、電池儲能測試等領(lǐng)域。
公司發(fā)展歷程：
2010年4月 入駐北京中關(guān)村科技園區(qū)
2010年9月 實(shí)驗(yàn)室特種光源、光催化系統(tǒng)等產(chǎn)品上市
2011年9月 中教金源多項(xiàng)*利商標(biāo)獲授權(quán)
2012年11月 研發(fā)上市氣相色譜儀、液相色譜儀，并成立常規(guī)儀器事業(yè)部
2013年3月 榮獲北京市*頒發(fā)的*利試點(diǎn)證書
2013年12月 榮獲*技術(shù)企業(yè) GR201311001237，2016年獲延期
2014年4月 全自動光催化系統(tǒng)、智能光源系統(tǒng)上市
2015年1月 大功率LED光源系統(tǒng)上市
2015年10月 微量全自動光解水系統(tǒng)上市
2017年6月 全自動環(huán)境材料光催化活性評價(jià)系統(tǒng)獲得豐臺區(qū)科技型中小企業(yè)創(chuàng)新基金 80萬元的資金支持，2018年11月成功驗(yàn)收。
2019年1月 瞬態(tài)光電系統(tǒng)TPV、TAS，光熱微反，高壓原位紅外正式推出。
2019----2020----2021--------中教金源與您一路前行……
具體研究方向如：太陽能電池研究、光電轉(zhuǎn)換、光化學(xué)及光催化、光致變色、表面瑕疵檢測、生物光照、光聚合等諸多領(lǐng)域。
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥,綜合 |
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CS310M電化學(xué)工作站報(bào)價(jià)單
CS系列電化學(xué)工作站具有出色的穩(wěn)定性和精確度，優(yōu)良的硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供了優(yōu)秀的科研平臺。
產(chǎn)品應(yīng)用：
1）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化等反應(yīng)機(jī)理研究；
2）電分析化學(xué)研究；電化學(xué)傳感器的性能研究；
3）新型能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、優(yōu)良功能材料以及光電材料的性能研究；
4）金屬材料在不同介質(zhì)（水/混凝土/土壤等）中的腐蝕研究與耐蝕性評價(jià)；
5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評價(jià)。
1、硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位電位控制范圍：±10V 恒電流控制范圍：±2.0A
電位控制精度：0.1%@Fullscale±1mV 電流控制精度：0.1%@Fullscale
電位分辨率：10mV(>100Hz), 3mV(<10Hz) 電流靈敏度：1pA
電位上升時(shí)間：<1mS(<10mA), <10mS(<2A) 參比電極輸入阻抗：1012W||20pF
電流量程：2nA～2 A ， 共10檔 槽壓：±21V
最大輸出電流：2.0A CV 和LSV掃描速度：0.001mV～10V/s
CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s 電流掃描增量：1mA @1A/mS
電位掃描時(shí)電位增量：0.076mV @1V/mS SWV頻率：0.001～100KHz
DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz, 20bit @1KHz
DA分辨率：16bit, 建立時(shí)間：1mS CV的最小電位增量：0.075mV
IMP頻率：10mHz~1MHz 低通濾波器：8段可編程
電流與電位量程：自動設(shè)置 接口通訊模式：USB2.0
2、電化學(xué)阻抗功能指標(biāo)
信號發(fā)生器：
頻率響應(yīng)：10mHz~1MHz 頻率精確度：0.005%
交流信號幅值：1mV~2500mV 信號分辨率：0.1mV RMS
直流偏壓：-10~+10V DDS輸出阻抗：50W
波形：正弦波，三角波，方波 正弦波失真：<1%
掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降
信號分析器：
最小積分時(shí)間：10mS 或者循環(huán)的最長時(shí)間
最大積分時(shí)間：106個循環(huán)或者105S
測量時(shí)間延遲：0~105秒
直流偏置補(bǔ)償：
電位自動補(bǔ)償范圍：-10V~+10V
電流補(bǔ)償范圍：-1A~+1A
帶寬調(diào)整(Bandwidth) ：自動或手動設(shè)置，共8級可調(diào)
3、CorrTest測量與控制軟件主要功能
穩(wěn)態(tài)極化：開路電位測量（OCP）、恒電位極化（I-t曲線測試)、恒電流極化、動電位掃描（TAFEL曲線）、動電流掃描（DGP）
暫態(tài)極化：任意恒電位階梯波、任意恒電流階梯波、多電位階躍（VSTEP）、多電流階躍（ISTEP）
計(jì)時(shí)分析：計(jì)時(shí)電位法（CP）、計(jì)時(shí)電流法（CA）、計(jì)時(shí)電量法（CC）
伏安分析：線性掃描伏安法（LSV）#、線性循環(huán)伏安法（CV）
交流阻抗：電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描、電化學(xué)阻抗（EIS）～時(shí)間掃描、電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線）、恒電流阻抗測試
腐蝕測量：動電位再活化法（EPR）、電化學(xué)噪聲（EN）、電偶腐蝕測量（ZRA）、氫擴(kuò)散測試、晶間腐蝕測量
電池測試：電池充放電測試、恒電流充放電、恒電流滴定GITT、恒電位滴定PITT
其他：圓盤電極測試及轉(zhuǎn)速控制、溶液電阻測量（IR降）、溶液電阻正反饋補(bǔ)償（IR補(bǔ)償）
4、儀器配置
1）儀器主機(jī)1臺；
2）CorrTest測試與分析軟件1套
3）電源線、USB數(shù)據(jù)線、電極電纜線各1條
4）模擬電解池1個（儀器自檢器件）
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