高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)--XC500

真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開門

真空室尺寸:φ500X300mm

極限真空度:≤6.67E-5Pa

沉積源:

樣品尺寸，溫度:感應(yīng)熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內(nèi)化

占地面積(長x寬x高):約2.7米x1.4米x2米

電控描述:手動

工藝:不含工藝

特色參數(shù): 高速輥輪線速度0-50m/s可調(diào);坩堝手動直線進(jìn)給機(jī)構(gòu);條帶接收器:Ф125x1500mm

產(chǎn)品概述:

系統(tǒng)主要由感應(yīng)熔煉真空室、轉(zhuǎn)動門、單輥旋淬裝置、感應(yīng)熔煉機(jī)構(gòu)、手動直線進(jìn)給機(jī)構(gòu)、噴鑄系統(tǒng)、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等各部分組成。

設(shè)備用途:

高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。