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膜片鉗系統(tǒng)

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      中科應化(長春)科技有限公司成立于1989年,是長春應化所的全資企業(yè),是長春應化所產(chǎn)業(yè)化平臺和經(jīng)營性資產(chǎn)運管理機構(gòu)。公司注冊資本12226.8萬元,總資產(chǎn)28686萬元。公司是中科院系統(tǒng)內(nèi)成立科研成果轉(zhuǎn)化、運營管理機構(gòu),也是是長春應化所產(chǎn)業(yè)化平臺和經(jīng)營性資產(chǎn)運營管理機構(gòu)。其業(yè)務范圍廣泛,涵蓋了化學技術服務、超高純稀土氧化物生產(chǎn)、科技咨詢、成果轉(zhuǎn)讓、技術服務、技術開發(fā)、技術轉(zhuǎn)讓等多個領域。

      中科應化(長春)科技有限公司儀器裝備事業(yè)部成立于2022年10月18日,肩負著推動公司科技自主創(chuàng)新和科技進步的重要使命,致力于科研儀器的研發(fā)與創(chuàng)新。依托于負責人及團隊成員多年的電化學理論與多學科交叉技術積累,公司突破了多項技術瓶頸,研發(fā)了多款電化學設備,創(chuàng)立MinTech品牌

在當前的科研領域中,超高時間&空間分辨率的化學反應測量技術正成為能源、材料、催化、環(huán)境以及生命科學等眾多學科的研究熱點。我們的超分辨電化學顯微鏡(SRECM)系統(tǒng)系列產(chǎn)品,正是為了滿足這一需求而誕生,不僅能夠提供物理高分辨表征技術難以捕捉的微觀化學信息,如反應動力學和速率,還能建立之前難以獲得的精準構(gòu)效關系。作為超分辨電化學顯微鏡系統(tǒng)一體化解決方案的供應商,我們提供納米電極探針制備的全套設備。其中包括超高溫拉制儀,專為石英拉制而設計;碳納米電極制備儀,制備20nm及以上的納米電極;更有電極探針精密拋光儀,確保針尖平整無瑕。此外,超級屏蔽系統(tǒng)具有五重屏蔽功能,膜片鉗系統(tǒng)應用于納米尺度電化學的精準測量與高靈敏高通量分析,這些裝備的成功研制,為國內(nèi)科研人員提供了在核心功能和關鍵性能方面的原位表征工具。

我們的產(chǎn)品已經(jīng)成功銷售至電子科技大學、中科院過程工程研究所等國內(nèi)的研究機構(gòu),并收到了清華大學、華中科技大學、哈爾濱工業(yè)大學、華南理工大學、中國礦業(yè)大學以及華為瓦特等10余所大學、研究所與企業(yè)實驗室的強烈購買意向。這是對我們產(chǎn)品質(zhì)量的認可,更是對我們未來發(fā)展的期許。

未來,中科應化(長春)科技有限公司將繼續(xù)秉持創(chuàng)新精神,以科研儀器的研發(fā)與創(chuàng)新為核心,不斷推動科技進步,為科研工作者提供更優(yōu)質(zhì)的科研工具,助力科學研究邁向新的高度。

超分辨電化學顯微鏡,石英拉制儀,超快高溫爐


一、系統(tǒng)構(gòu)成

膜片鉗系統(tǒng)由膜片鉗放大器、高速數(shù)據(jù)采集器以及界面友好的測量軟件組成,主要應用于納米尺度電化學的精準測量與高靈敏高通量分析。


二、主要參數(shù)

1. 膜片鉗放大器

電流測量電阻

0.5 GΩ/50 GΩ,由GAIN的設定自動切換

測量電流

20 nA(0.5 GΩ,范圍),200 pA(50 GΩ,范圍)

增益

0.5,1,2,5,10,20,50,100,200,500,1000 mV/pA(電壓鉗)

帶寬

電壓鉗50 kHz,電流鉗25 kHz(0.5 G范圍)

內(nèi)部濾波器

10 Hz,100 Hz,1 kHz,2 kHz,5 kHz,10 kHz,4階濾波器(面板可調(diào)濾波器為電壓鉗用)

快電容補償范圍

0-10 pF,時間常數(shù)調(diào)整范圍:0.5~5 us

慢電容補償范圍

0.2~10 pF/2~100 pF/20~1000 pF

串聯(lián)電導補償

0.01-1 us,由慢電容補償調(diào)節(jié)自動確定

串聯(lián)電阻補償

補償范圍:1~100 MΩ,補償率:0~90%

電流鉗模式

保持電流范圍0.5G負載下±1000 pA(±5V輸入),1G負載下±500 pA(±2.5V輸入)

命令電流輸入倍率

100 pA/V,20 pA/V

噪聲顯示帶寬

300 Hz~內(nèi)部濾波器帶寬

顯示范圍

0~199.9 mV

輸出電壓范圍

±10 V


2. 高速數(shù)據(jù)采集器

通訊接口

USB

輸入/輸出電壓范圍

±10 V

供電電壓

AC220 V

采集速率

2 MHz

響應速率

2 MS/s

多通道

5 AI/2 AO

數(shù)字輸出接口

10 CH




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