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全自動(dòng)boe清洗機(jī) 芯矽科技

參考價(jià) 10000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 蘇州芯矽電子科技有限公司
  • 品牌 芯矽科技
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 蘇州市工業(yè)園區(qū)江浦路41號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2025/7/2 10:37:08
  • 訪問次數(shù) 78

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芯矽科技是一家專注半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造公司,主要提供實(shí)驗(yàn)室研發(fā)級(jí)到全自動(dòng)量產(chǎn)級(jí)槽式清洗機(jī),單片清洗機(jī),高純化學(xué)品/研磨液供應(yīng)回收系統(tǒng)及工程,公司核心產(chǎn)品12寸全自動(dòng)晶圓化學(xué)鍍?cè)O(shè)備,12寸全自動(dòng)爐管/ Boat /石英清洗機(jī)已占據(jù)行業(yè)主導(dǎo)地位,已經(jīng)成功取得長(zhǎng)江存儲(chǔ),中芯國際,重慶華潤(rùn),上海華虹,上海積塔,上海格科,廣東粵芯,青島芯恩,廈門士蘭,南通捷捷,湖南楚微等主流8寸12寸Fab產(chǎn)線訂單,我們致力于為合作伙伴提供適合你的解決方案。


導(dǎo)體濕法設(shè)備

非標(biāo)定制 根據(jù)客戶需求定制

全自動(dòng)BOE(Buffered Oxide Etchant,緩沖氧化蝕刻液)清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于高效清洗硅片表面氧化層和污染物的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于晶圓制造、封裝測(cè)試等環(huán)節(jié)。以下是其核心功能、技術(shù)特點(diǎn)及對(duì)生產(chǎn)的幫助:

核心功能

精準(zhǔn)去除氧化層

作用:通過稀釋氫氟酸(HF)與氟化物緩沖體系(如NH?F),選擇性蝕刻硅片表面的原生氧化層(SiO?)或工藝產(chǎn)生的氧化膜(如熱氧化層、CVD氧化層)。

優(yōu)勢(shì):避免過蝕刻硅基底,保持表面平整度(如Ra < 1nm)。

高效去除污染物

顆粒清除:去除切割、研磨或傳輸過程中附著的Si、Al、Cu等微粒(尺寸<0.1μm)。

金屬污染清洗:螯合殘留的金屬離子(如Na?、Fe3?、Al3?),防止電遷移失效。

有機(jī)物去除:溶解光刻膠殘留、助焊劑等有機(jī)污染物。

表面鈍化與保護(hù)

作用:在蝕刻后形成均勻的氫終止表面(H-terminated surface),減少后續(xù)氧化和污染風(fēng)險(xiǎn)。

應(yīng)用:為CVD沉積、金屬化(如電鍍銅)等工藝提供高潔凈度表面。

自動(dòng)化控制

參數(shù)調(diào)控:自動(dòng)調(diào)節(jié)BOE濃度(如DF?濃度50~200ppm)、溫度(20~40℃)、處理時(shí)間(1~10分鐘)。

均勻性保障:通過噴淋、浸泡或超聲波清洗模式,確保整批晶圓處理一致性。

技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)

溫和蝕刻,精準(zhǔn)控制

緩沖體系:NH?F緩沖HF的強(qiáng)腐蝕性,避免對(duì)硅基底的損傷,蝕刻速率可控制在0.1~1nm/min。

選擇性蝕刻:對(duì)SiO?:Si的蝕刻選擇比>100:1,保障底層硅不受侵蝕。

高效清洗與干燥

多槽設(shè)計(jì):集成預(yù)處理(DIW沖洗)、BOE蝕刻、去離子水漂洗、IPA(異丙醇)干燥等多道工序。

干燥技術(shù):采用氮?dú)獯祾?IPA蒸干,避免水漬殘留(如<5μg/cm2)。

智能化與自動(dòng)化

程序控制:預(yù)設(shè)配方參數(shù)(如BOE配比、溫度曲線),支持一鍵啟動(dòng)。

實(shí)時(shí)監(jiān)控:配備在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(如pH計(jì)、濁度傳感器),自動(dòng)調(diào)整化學(xué)品濃度和流量。

數(shù)據(jù)追溯:記錄每批次晶圓的清洗時(shí)間、耗液量、良率等參數(shù),符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)。

環(huán)保與安全

廢液處理:自動(dòng)收集廢BOE液,中和后排放,符合ROHS和環(huán)保法規(guī)。

安全防護(hù):密閉系統(tǒng)+防腐蝕材料(如PFA管路),避免HF泄漏風(fēng)險(xiǎn)。

對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)的幫助

提升產(chǎn)品良率

清除氧化層和污染物,減少后續(xù)工藝(如CMP、光刻)中的缺陷(如劃痕、顆粒污染)。

避免因殘留氧化層導(dǎo)致的薄膜附著力差或漏電問題。

提高生產(chǎn)效率

全自動(dòng)運(yùn)行:?jiǎn)闻_(tái)設(shè)備可處理200~400片/小時(shí)(視晶圓尺寸而定),替代人工操作。

多批次連續(xù)處理:支持8~12英寸晶圓兼容,適應(yīng)不同產(chǎn)線需求。

降低生產(chǎn)成本

化學(xué)品節(jié)約:精準(zhǔn)控溫、濃度監(jiān)測(cè)和回收系統(tǒng),減少BOE消耗(如降低30%用量)。

減少報(bào)廢:均勻清洗避免局部過蝕或清洗不足導(dǎo)致的晶圓報(bào)廢。

適配制程

微小結(jié)構(gòu)清洗:針對(duì)FinFET、GAA等納米器件,去除溝槽內(nèi)污染物,保障電性能。

低k材料兼容:優(yōu)化BOE配方,避免損傷低介電常數(shù)(low-k)材料(如SiCOH、SiOC)。

全自動(dòng)BOE清洗機(jī)通過精準(zhǔn)蝕刻、高效清洗和智能化控制,解決了半導(dǎo)體制造中氧化層和污染物的難題,顯著提升了產(chǎn)品良率、生產(chǎn)效率和工藝穩(wěn)定性。其技術(shù)優(yōu)勢(shì)(如緩沖蝕刻、自動(dòng)化監(jiān)控)和環(huán)保設(shè)計(jì),使其成為制程(如2.5D/3D封裝、5G芯片)中的關(guān)鍵設(shè)備。



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