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Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)

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OAI光刻機(jī)

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國公司?;?/span> Science is international”的想法,“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”成為三位博士追逐的夢(mèng)想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家,科學(xué)開創(chuàng)美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域,始終秉承“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨,將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程;材料科學(xué)的檢測(cè)、分析;生命科學(xué)成像,腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng),能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛,其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。

在成長的過程中,我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港(中華區(qū))公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。

我們真誠邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航!

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)

Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)

從簡便性、多功能性、操作便捷性以及總體擁有成本來看,OAI邊緣去膠與泛光曝光系統(tǒng)無疑是目前的好解決方案。

OAI 2000 型可配置為邊緣膠珠曝光工具或泛光曝光系統(tǒng);兩種配置均基于經(jīng)實(shí)踐驗(yàn)證、長期可靠的平臺(tái)。OAI 2000SM 邊緣膠珠曝光系統(tǒng)采用標(biāo)準(zhǔn)蔭罩技術(shù),為邊緣膠珠曝光提供具成本效益的方法。掩模與基板的更換可快速便捷完成,提升了這款大批量生產(chǎn)工具的多功能性與吞吐量。

2000 型配備紫外光源、控制光強(qiáng)的電源以及自動(dòng)基板傳輸子系統(tǒng)。紫外光源可提供均勻光強(qiáng)的光束,發(fā)散半角小于 2.0o 。電源功率可選 200 瓦至 5000 瓦。光強(qiáng)控制器傳感器直接與光源相連,實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)光強(qiáng)監(jiān)測(cè)。OAI 自動(dòng)基板傳輸系統(tǒng)由微處理器控制,可通過編程適配多種基板尺寸。蔭罩功能使用戶能夠在基板與掩模近距離貼合時(shí),對(duì)基板正面進(jìn)行圖案加工。當(dāng)間距為 25 微米時(shí),這些系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn) 6 微米的分辨率。
2000FL 泛光曝光系統(tǒng)用于在生產(chǎn)及研發(fā)場景中強(qiáng)化和 / 或優(yōu)化光刻工藝。應(yīng)用包括光刻膠穩(wěn)定化與改性、圖像反轉(zhuǎn)以及 PCM(工藝控制監(jiān)測(cè) )工藝。


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2000FL 型泛光曝光系統(tǒng)特點(diǎn)

  • 吞吐量不受圖案復(fù)雜度影響

  • 可一次性曝光整個(gè)基板

  • 配備光強(qiáng)控制電源


2000SM 型邊緣膠珠系統(tǒng)特點(diǎn)

  • 更換曝光圖案如同更換遮罩一樣簡單

  • 換型(含掩模對(duì)準(zhǔn))僅需 10 分鐘


Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)

Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)規(guī)格參數(shù)

Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī)





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