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小型卷對卷連續(xù)生長CVD設備

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熱處理設備,高溫爐、CVD/PECVD、真空系統(tǒng)、晶體、耗材等

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
儀器種類 管式爐 應用領域 能源,航空航天,制藥/生物制藥,電氣

一、簡要介紹

加熱設備:主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長,該回轉加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料,采用電阻絲為加熱元件。加熱系統(tǒng)設計為上下可開啟式結構,方便觀察石英管以及物料的狀態(tài)。石英爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封,進氣口使用旋轉接頭連接使攪拌過程順暢。出氣端采用磁流體密封的形式,將抽氣接口和真空泵相連,確保實驗可在一定的負壓條件下進行。四段加熱溫區(qū)設計可以有效延長恒溫區(qū)的長度,加熱絲均勻緊湊地分布在爐管外,有效的保證整個過程中物料充分加熱,且與反應氣體充分接觸。控溫熱電偶使用適合中低溫度條件下的K型熱電偶,以提高控溫的精確性。該設備能夠方便客戶對材料進行全過程氣氛保護或與真空條件下的實驗。

爐體的控制面板配有智能溫度調節(jié)儀,控制電源開關、爐管旋轉控制按鈕,加熱工作/停止按鈕,配有電源和保險指示燈,以便隨時觀察本系統(tǒng)的工作狀態(tài)。

卷對卷設備:在原設備基礎上加裝銅箔卷對卷裝置(客戶自備管式回轉爐和射頻電源機組),PECVD可以左右互換,加裝10寸觸摸屏可以控制氣路和爐體加熱及銅箔收卷參數(shù)。爐管法蘭常壓及負壓環(huán)境使用;

氣路加裝3路質量流量計,量程分別為200、200、500sccm;

真空部分:加裝電阻真空計,配機械泵1臺。

小型卷對卷連續(xù)生長CVD設備

二、技術參數(shù)

型號

LFT1200C1600D100IV-RTR-PECVD

額定功率

13KW

額定電壓

AC380V

最高溫度

爐管為石英管時,最高溫度不超過1100

額定溫度

1100℃

升溫速率

10℃/min

控溫精度

±1℃

控溫方式

模糊 PID 程序控溫30段程序控溫

熱電偶型

K 型

加熱元件

電阻絲

設備重量

510KG

外型尺寸(長×深×高)

4170*890*1260mm

加熱區(qū)長度

400+400+400+400mm(恒溫區(qū)1200mm)

爐管尺寸

Φ100*3000mm

爐管旋轉速率

0-13轉/min

真空度

10Pa


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